EMBOSSING DEVICE FOR EMBOSSING MICRO- OR NANOSTRUCTURES

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Herstellung von Sicherheitselementen, wobei die Sicherheitselemente auf einer Vorderseite und einer Rückseite einer Folienbahn angeordnet sind und aus Prägestrukturen in einer Lackschicht mit Abmessungen im Bereich von Mikro- oder Nanometern bestehen. Erfindungsgemäß weist die Vorrichtung in Beförderungsrichtung der Folienbahn die folgenden Einrichtungen auf: eine Einrichtung zum Bereitstellen einer Folienbahn, ein erstes Druckwerk zum Aufbringen einer ersten Lackschicht, die mittels ultravioletter Strahlung härtbar ist, auf die Rückseite der Folienbahn, ein erstes Prägewerk zum Prägen von ersten Strukturen mit Abmessungen im Bereich von Mikro- oder Nanometern in die erste Lackschicht, ein zweites Druckwerk zum Aufbringen einer zweiten Lackschicht, die mittels ultravioletter Strahlung härtbar ist, auf die Vorderseite der Folienbahn, ein zweites Prägewerk zum Prägen von zweiten Strukturen mit Abmessungen im Bereich von Mikro- oder Nanometern in die zweite Lackschicht. Erfindungsgemäß läuft die Folienbahn in das erste Druckwerk von unten bzw. schräg unten, in das erste Prägewerk von oben bzw. schräg oben, in das zweite Druckwerk ebenfalls von oben bzw. schräg oben und in das zweite Prägewerk wiederum von unten bzw. schräg unten ein. Alternativ dazu läuft die Folienbahn in das erste Druckwerk von oben bzw. schräg oben, in das erste Prägewerk von unten bzw. schräg unten, in das zweite Druckwerk ebenfalls von unten bzw. schräg unten und in das zweite Prägewerk wiederum von oben bzw. schräg oben ein. The invention relates to a device for producing security elements, wherein the security elements are arranged on a front side and a rear side of a film web, and are formed by embossed structures in a coating layer with dimensions in the region of micro- or nanometers. According to the invention, in the conveying direction of the film web, the device has the following equipment: a device for providing a film web; a first printing mechanism for applying a first coating layer that can be cured via ultraviolet light to the rear side of the film web; a first embossing mechanism for embossing first structures with dimensions in the region of micro- or nanometers in the first coating layer; a second printing mechanism for applying a second coating layer that can be cured via ultraviolet light to the front side of the film web; and a second embossing mechanism for embossing second structures with dimensions in the region of micro-