EUV SOURCE CHAMBER AND GAS FLOW REGIME FOR LITHOGRAPHIC APPARATUS, MULTI-LAYER MIRROR AND LITHOGRAPHIC APPARATUS

Disclosed is a radiation source module, and associated method of transporting fuel debris out of a source chamber. The radiation source module generates a radiation producing plasma (2) at a plasma formation site by excitation of a fuel. The radiation source (SO) comprises: a source chamber (435); a radiation collector (400) within the source chamber for collecting and focusing said radiation; a primary buffer gas inlet (410) for admitting a primary buffer gas (415) into the source chamber; and a buffer gas outlet (420) in the vicinity of said radiation collector, for exhausting said primary buffer gas from the source chamber. Also disclosed is a multi-layer mirror, and in particular a radiation collector, comprising a substrate coated with at least one reflective layer and a plurality of perforations within the reflective layer. Cette invention concerne un module de source de rayonnement, et un procédé associé de transport de débris de carburant hors d'une chambre de source. Le module de source de rayonnement génère un rayonnement produisant un plasma (2) au niveau d'un site de formation de plasma par excitation d'un carburant. La source de rayonnement (SO) comprend : une chambre de source -435); un collecteur de rayonnement (400) à l'intérieur de la chambre de source pour collecter et focaliser ledit rayonnement; un orifice d'admission de gaz protecteur primaire (410) pour l'admission d'un gaz protecteur primaire (415) dans la chambre de source; et un orifice de sortie de gaz protecteur (420) dans le voisinage dudit collecteur de rayonnement, conçu pour évacuer ledit gaz protecteur primaire à partir de la chambre de source. L'invention concerne en outre un miroir multicouche, et en particulier un collecteur de rayonnement, comprenant un substrat recouvert d'au moins une couche réfléchissante et une pluralité de perforations à l'intérieur de la couche réfléchissante.