SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR ASSEMBLING TUBE ASSEMBLY

The present invention comprises: a tube assembly, having an internal space for processing a substrate formed therein, which is assembled by laminating a plurality of laminates; a substrate holder for supporting a plurality of substrates in multiple stages in the internal space of the tube assembly; a gas supply unit, installed at one side of the tube assembly, for supplying a process gas to each of the plurality of substrates in the internal space; and an exhaust unit connected to the tube assembly to exhaust the process gas supplied to the internal space. The present invention may provide a uniform amount of the process gas to the upper surface of the substrates by inducing laminar flow. La présente invention comprend : un ensemble tubulaire, dans lequel est ménagé un espace interne pour le traitement de substrats, qui est assemblé par stratification d'une pluralité de stratifiés ; un porte-substrat pour porter une pluralité de substrats en de multiples étages dans l'espace interne de l'ensemble tubulaire ; une unité d'alimentation en gaz, installée d'un côté de l'ensemble tubulaire, pour fournir un gaz de traitement à chaque substrat de la pluralité de substrats dans l'espace interne ; une unité d'échappement reliée à l'ensemble tubulaire pour évacuer le gaz de traitement fourni à l'espace interne. La présente invention peut fournir une quantité uniforme du gaz de traitement à la surface supérieure des substrats par induction d'un écoulement laminaire. 본 발명은 기판이 처리되는 내부공간을 형성하고, 복수의 적층체가 적층되어 조립되는 튜브 조립체, 상기 튜브 조립체의 내부공간에서 복수의 기판을 다단으로 지지하는 기판홀더, 상기 튜브 조립체의 일측에 설치되고, 상기 내부공간의 복수의 기판 각각으로 공정가스를 공급하는 가스공급유닛, 및 상기 내부공간으로 공급된 공정가스를 배기하도록 튜브 조립체에 연결되는 배기유닛을 포함하고, 층류를 유도하여 기판의 상부면으로 균일한 양의 공정가스를 공급할 수 있다.