POLISHING PAD, POLISHING METHOD USING POLISHING PAD, METHOD FOR USING SAID POLISHING PAD

Provided is a polishing pad having a resin foam article composed of a thermoplastic resin with excellent re-polishing characteristics, the polishing pad being capable of eliminating or dramatically shortening pre-polishing time and realizing simple polishing, and being capable of highly reliable and efficient polishing by continuous polishing at an excellent polishing speed from an initial stage. The polishing pad (1, 2) is composed of a highly rigid thermoplastic hard resin foam article having a three-dimensional cell structure partitioned by cell walls so as to have a plurality of cells and partitions in which these cells are mutually independent. The polishing pad has a structure in which the tensile strength is 50-90 MPa, bending strength is 90-140 MPa, the tensile modulus of elasticity and the flexural elastic modulus are both 2400 MPa or greater, the average cell diameter is 4-50 μm, the average cell wall thickness is 1-5 μm, and the ratio of the average cell diameter to the average cell wall thickness is in a range of 4-10, the values being the mechanical characteristics of the wall section of the cell walls as expressed by the mechanical characteristics of the resin sheet material prior to foaming. L'invention concerne un tampon de polissage qui possède un article en mousse de résine constitué d'une résine thermoplastique ayant d'excellentes caractéristiques de repolissage, le tampon de polissage pouvant éliminer ou raccourcir considérablement le temps de pré-polissage et effectuer un polissage simple, et pouvant obtenir un polissage extrêmement fiable et efficace par polissage continu à une excellente vitesse de polissage à partir d'un stade initial. Le tampon de polissage (1, 2) est constitué d'un article en mousse de résine dure thermoplastique extrêmement rigide ayant une structure de cellule tridimensionnelle, divisée par des parois de cellules afin d'avoir une pluralité de cellules et de séparations, ces cellules étant mutuellement indépendantes. Le tampon de polissage possède une structure dans laquelle la résistance à la traction est de 50 à 90 MPa, la résistance à la flexion est de 90 à 140 MPa, le module d'élasticité à la traction et le module d'élasticité à la flexion sont tous deux de 2400 MPa ou plus, le diamètre moyen de cellule est de 4 à 50 µm, l'épaisseur moyenne de paroi de cellule est de 1 à 5 µm, et le rapport du diamètre moyen de cellule à l'épaisseur moyenne de paroi de cellule est dans une plage de 4 à 10, les valeurs étant l