EPITAXIAL WAFER REAR SURFACE INSPECTION DEVICE AND EPITAXIAL WAFER REAR SURFACE INSPECTION METHOD USING SAME

Provided is an epitaxial wafer rear surface inspection device capable of detecting defects on the rear surface of an epitaxial wafer. An epitaxial wafer rear surface inspection device (100) according to the present invention is characterized by having: an optical system (30) that is disposed perpend...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	OSADA, Tatsuya, KINBARA, Hideaki, EGASHIRA, Masahiko
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre ; jpn
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES MEASURING MEASURING ANGLES MEASURING AREAS MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES TESTING
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creator	OSADA, Tatsuya KINBARA, Hideaki EGASHIRA, Masahiko
description	Provided is an epitaxial wafer rear surface inspection device capable of detecting defects on the rear surface of an epitaxial wafer. An epitaxial wafer rear surface inspection device (100) according to the present invention is characterized by having: an optical system (30) that is disposed perpendicularly to the rear surface of an epitaxial wafer (1), and that is equipped with a ring fiber illumination (10) and a photographing unit (20); and a scan unit (40) that scans the optical system (30) in parallel to the rear surface, wherein the light source for the ring fiber illumination (10) is either a blue LED or a red LED. La présente invention concerne un dispositif d'inspection de surface arrière de tranche épitaxiale qui peut détecter des défauts sur la surface arrière d'une tranche épitaxiale. Un dispositif d'inspection de surface arrière de tranche épitaxiale (100) selon la présente invention est caractérisé en ce qu'il comprend : un système optique (30) qui est disposé perpendiculairement à la surface arrière d'une tranche épitaxiale (1), et qui est équipé d'un éclairage de fibre annulaire (10) et d'une unité de photographie (20) ; et une unité de balayage (40) qui balaie le système optique (30) en parallèle par rapport à la surface arrière, la source de lumière permettant l'éclairage de fibre annulaire (10) étant soit une diode électroluminescente bleue ou une diode électroluminescente rouge. エピタキシャルウェーハ裏面における欠陥を検出することのできるエピタキシャルウェーハ裏面検査装置を提供する。本発明のエピタキシャルウェーハ裏面検査装置１００は、エピタキシャルウェーハ１の裏面に対して垂直に設置される、リングファイバー照明１０および撮影部２０を備える光学系３０と、前記裏面と平行に光学系３０を走査する走査部４０と、を有し、リングファイバー照明１０の光源は、青色ＬＥＤおよび赤色ＬＥＤのいずれかであることを特徴とする。
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An epitaxial wafer rear surface inspection device (100) according to the present invention is characterized by having: an optical system (30) that is disposed perpendicularly to the rear surface of an epitaxial wafer (1), and that is equipped with a ring fiber illumination (10) and a photographing unit (20); and a scan unit (40) that scans the optical system (30) in parallel to the rear surface, wherein the light source for the ring fiber illumination (10) is either a blue LED or a red LED. La présente invention concerne un dispositif d'inspection de surface arrière de tranche épitaxiale qui peut détecter des défauts sur la surface arrière d'une tranche épitaxiale. Un dispositif d'inspection de surface arrière de tranche épitaxiale (100) selon la présente invention est caractérisé en ce qu'il comprend : un système optique (30) qui est disposé perpendiculairement à la surface arrière d'une tranche épitaxiale (1), et qui est équipé d'un éclairage de fibre annulaire (10) et d'une unité de photographie (20) ; et une unité de balayage (40) qui balaie le système optique (30) en parallèle par rapport à la surface arrière, la source de lumière permettant l'éclairage de fibre annulaire (10) étant soit une diode électroluminescente bleue ou une diode électroluminescente rouge. エピタキシャルウェーハ裏面における欠陥を検出することのできるエピタキシャルウェーハ裏面検査装置を提供する。本発明のエピタキシャルウェーハ裏面検査装置１００は、エピタキシャルウェーハ１の裏面に対して垂直に設置される、リングファイバー照明１０および撮影部２０を備える光学系３０と、前記裏面と平行に光学系３０を走査する走査部４０と、を有し、リングファイバー照明１０の光源は、青色ＬＥＤおよび赤色ＬＥＤのいずれかであることを特徴とする。</description><language>eng ; fre ; jpn</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES ; MEASURING ; MEASURING ANGLES ; MEASURING AREAS ; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS ; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS ; PHYSICS ; SEMICONDUCTOR DEVICES ; TESTING</subject><creationdate>2017</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20170413&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2017061063A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25563,76418</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20170413&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2017061063A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>OSADA, Tatsuya</creatorcontrib><creatorcontrib>KINBARA, Hideaki</creatorcontrib><creatorcontrib>EGASHIRA, Masahiko</creatorcontrib><title>EPITAXIAL WAFER REAR SURFACE INSPECTION DEVICE AND EPITAXIAL WAFER REAR SURFACE INSPECTION METHOD USING SAME</title><description>Provided is an epitaxial wafer rear surface inspection device capable of detecting defects on the rear surface of an epitaxial wafer. 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An epitaxial wafer rear surface inspection device (100) according to the present invention is characterized by having: an optical system (30) that is disposed perpendicularly to the rear surface of an epitaxial wafer (1), and that is equipped with a ring fiber illumination (10) and a photographing unit (20); and a scan unit (40) that scans the optical system (30) in parallel to the rear surface, wherein the light source for the ring fiber illumination (10) is either a blue LED or a red LED. La présente invention concerne un dispositif d'inspection de surface arrière de tranche épitaxiale qui peut détecter des défauts sur la surface arrière d'une tranche épitaxiale. Un dispositif d'inspection de surface arrière de tranche épitaxiale (100) selon la présente invention est caractérisé en ce qu'il comprend : un système optique (30) qui est disposé perpendiculairement à la surface arrière d'une tranche épitaxiale (1), et qui est équipé d'un éclairage de fibre annulaire (10) et d'une unité de photographie (20) ; et une unité de balayage (40) qui balaie le système optique (30) en parallèle par rapport à la surface arrière, la source de lumière permettant l'éclairage de fibre annulaire (10) étant soit une diode électroluminescente bleue ou une diode électroluminescente rouge. エピタキシャルウェーハ裏面における欠陥を検出することのできるエピタキシャルウェーハ裏面検査装置を提供する。本発明のエピタキシャルウェーハ裏面検査装置１００は、エピタキシャルウェーハ１の裏面に対して垂直に設置される、リングファイバー照明１０および撮影部２０を備える光学系３０と、前記裏面と平行に光学系３０を走査する走査部４０と、を有し、リングファイバー照明１０の光源は、青色ＬＥＤおよび赤色ＬＥＤのいずれかであることを特徴とする。</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
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