EPITAXIAL WAFER REAR SURFACE INSPECTION DEVICE AND EPITAXIAL WAFER REAR SURFACE INSPECTION METHOD USING SAME

Provided is an epitaxial wafer rear surface inspection device capable of detecting defects on the rear surface of an epitaxial wafer. An epitaxial wafer rear surface inspection device (100) according to the present invention is characterized by having: an optical system (30) that is disposed perpend...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: OSADA, Tatsuya, KINBARA, Hideaki, EGASHIRA, Masahiko
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:Provided is an epitaxial wafer rear surface inspection device capable of detecting defects on the rear surface of an epitaxial wafer. An epitaxial wafer rear surface inspection device (100) according to the present invention is characterized by having: an optical system (30) that is disposed perpendicularly to the rear surface of an epitaxial wafer (1), and that is equipped with a ring fiber illumination (10) and a photographing unit (20); and a scan unit (40) that scans the optical system (30) in parallel to the rear surface, wherein the light source for the ring fiber illumination (10) is either a blue LED or a red LED. La présente invention concerne un dispositif d'inspection de surface arrière de tranche épitaxiale qui peut détecter des défauts sur la surface arrière d'une tranche épitaxiale. Un dispositif d'inspection de surface arrière de tranche épitaxiale (100) selon la présente invention est caractérisé en ce qu'il comprend : un système optique (30) qui est disposé perpendiculairement à la surface arrière d'une tranche épitaxiale (1), et qui est équipé d'un éclairage de fibre annulaire (10) et d'une unité de photographie (20) ; et une unité de balayage (40) qui balaie le système optique (30) en parallèle par rapport à la surface arrière, la source de lumière permettant l'éclairage de fibre annulaire (10) étant soit une diode électroluminescente bleue ou une diode électroluminescente rouge. エピタキシャルウェーハ裏面における欠陥を検出することのできるエピタキシャルウェーハ裏面検査装置を提供する。本発明のエピタキシャルウェーハ裏面検査装置100は、エピタキシャルウェーハ1の裏面に対して垂直に設置される、リングファイバー照明10および撮影部20を備える光学系30と、前記裏面と平行に光学系30を走査する走査部40と、を有し、リングファイバー照明10の光源は、青色LEDおよび赤色LEDのいずれかであることを特徴とする。