BACKSCATTERED ELECTRONS (BSE) IMAGING USING MULTI-BEAM TOOLS
Multi-beam scanning electron microscope inspection systems are disclosed. A multi-beam scanning electron microscope inspection system may include an electron source and a beamlet control mechanism. The beamlet control mechanism may be configured to produce a plurality of beamlets utilizing electrons...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | Multi-beam scanning electron microscope inspection systems are disclosed. A multi-beam scanning electron microscope inspection system may include an electron source and a beamlet control mechanism. The beamlet control mechanism may be configured to produce a plurality of beamlets utilizing electrons provided by the electron source and deliver one of the plurality of beamlets toward a target at a time instance. The multi-beam scanning electron microscope inspection system may also include a detector configured to produce an image of the target at least partially based on electrons backscattered out of the target.
La présente invention porte sur des systèmes d'inspection par microscope électronique à balayage multifaisceaux. Un système d'inspection par microscope électronique à balayage multifaisceaux peut comprendre une source d'électrons et un mécanisme de commande de petits faisceaux. Le mécanisme de commande de petits faisceaux peut être configuré pour produire une pluralité de petits faisceaux utilisant des électrons fournis par la source d'électrons, et émettre un petit faisceau de la pluralité de petits faisceaux vers une cible à un certain instant. Le système d'inspection par microscope électronique à balayage multifaisceaux peut également comprendre un détecteur configuré afin de produire une image de la cible au moins partiellement sur la base d'électrons rétrodiffusés par la cible. |
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