BIPOLAR PLATE WITH FORCE CONCENTRATOR PATTERN

Embodiments of present disclosure are directed to a bipolar plate assembly. The bipolar plate assembly has a frame and a base. At least one of the frame and the base has a shape of a force concentrator pattern or has a first surface having a force concentrator pattern, the force concentrator pattern...

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1. Verfasser: VAN BOEYEN, Roger
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:Embodiments of present disclosure are directed to a bipolar plate assembly. The bipolar plate assembly has a frame and a base. At least one of the frame and the base has a shape of a force concentrator pattern or has a first surface having a force concentrator pattern, the force concentrator pattern including a raised surface extending partially across the first surface. A surface area of the force concentrator pattern across the length of the frame or base is generally constant, thereby producing a uniform compressive pressure along the length of the frame or base when the bipolar plate assembly is under compression. Selon divers modes de réalisation, la présente invention concerne un ensemble plaque bipolaire. L'ensemble plaque bipolaire comprend un cadre et une base. Le cadre et/ou la base présentent la forme d'un motif concentrateur de force ou présentent une première surface comprenant un motif concentrateur de force, le motif concentrateur de force comprenant une surface surélevée s'étendant sur une partie de la première surface. La superficie du motif concentrateur de force est sensiblement constante sur toute la longueur du cadre ou de la base, ce qui permet de produire un effort de compression uniforme le long de la longueur du cadre ou de la base quand l'ensemble plaque bipolaire est sous compression.