MULTI-BEAM DARK FIELD IMAGING

Multi-beam scanning electron microscope (SEM) inspection systems with dark field imaging capabilities are disclosed. An SEM inspection system may include an electron source and at least one optical device. The at least one optical device may be configured to produce a plurality of primary beamlets utilizing electrons provided by the electron source and deliver the plurality of primary beamlets toward a target. The apparatus may also include an array of detectors configured to receive a plurality of image beamlets emitted by the target in response to the plurality of primary beamlets and produce at least one dark field image of the target. L'invention concerne des systèmes d'inspection à microscope électronique à balayage (MEB) multifaisceau présentant des capacités d'imagerie en champ sombre. Un système d'inspection MEB peut comprendre une source d'électrons et au moins un dispositif optique. L'au moins un dispositif optique peut être configuré pour produire une pluralité de petits faisceaux primaires utilisant des électrons fournis par la source d'électrons et pour distribuer la pluralité de petits faisceaux primaires vers une cible. L'appareil peut aussi comprendre un réseau de détecteurs conçu pour recevoir une pluralité de petits faisceaux d'images émis par la cible en réponse à la pluralité de petits faisceaux primaires et pour produire au moins une image en champ sombre de la cible.