SCANNING MEASUREMENT SYSTEM

Controlling, based on characteristics, a lithographic apparatus having an exposure mode configured to expose a wafer held by a substrate table to an image of a pattern on a production reticle via a projection system, wherein in the exposure mode the production reticle is held at a reticle stage and is protected by a pellicle, the method comprising determining the characteristics of the projecting in a calibration mode, and the controlling comprising moving in the exposure mode at least one of the projection system, the reticle stage and the substrate table during the exposing in dependence on the characteristics. La présente invention a pour but de commander, sur la base de caractéristiques, un appareil lithographique ayant un mode d'exposition configuré pour exposer une tranche, retenue par une table de substrat, à une image d'un motif sur un réticule de production, par l'intermédiaire d'un système de projection, dans le mode d'exposition, le réticule de production étant tenu au niveau d'un étage de réticule et étant protégé par une pellicule, le procédé consistant à déterminer les caractéristiques de la projection dans un mode d'étalonnage, et la commande consistant à déplacer, dans le mode d'exposition, au moins un parmi le système de projection, l'étage de réticule et la table de substrat pendant l'exposition en fonction des caractéristiques.