WAFER WASHING METHOD, AND LIQUID CHEMICAL USED IN SAME

[Problem] To provide a liquid chemical used for forming a water repellent protective membrane, said liquid chemical being used in a wafer washing method in which a washing device that includes a vinyl chloride resin as a wetted member is used. [Solution] A liquid chemical is used, said liquid chemical including at least one compound selected from the group consisting of: an alkoxysilane represented by general formula [1]; a sulfonic acid represented by general formula [2]; an anhydrate of said sulfonic acid; a salt of said sulfonic acid; and a sulfonic acid derivative represented by general formula [3]. Also included in the liquid chemical is a dilution solvent having at least one compound selected from the group consisting of a hydrocarbon, ether, and thiol. [1] (R1) aSi (H)b (OR2)4-a-b [2] R3 - S(=O)2OH [3] R3 - S (=O)2 O-Si (H)3-c (R4)c Le problème décrit par la présente invention est de fournir un produit chimique liquide utilisé pour former une membrane de protection hydrofuge, ledit produit chimique liquide étant utilisé dans un procédé de lavage de tranche dans lequel est utilisé un dispositif de lavage qui comprend une résine de chlorure de vinyle en tant qu'élément mouillé. La solution selon l'invention porte sur un produit chimique liquide, ledit produit chimique liquide comprenant au moins un composé choisi dans le groupe constitué par : un alcoxysilane représenté par la formule générale [1]; un acide sulfonique représenté par la formule générale [2]; un anhydrate dudit acide sulfonique; un sel dudit acide sulfonique; et un dérivé d'acide sulfonique représenté par la formule générale [3]. Le produit chimique liquide comprend également un solvant de dilution comportant au moins un composé choisi dans le groupe constitué par un hydrocarbure, un éther et un thiol. [1] (R1) aSi (H)b (OR2)4-a-b [2] R3 - S(=O)2OH [3] R3 - S (=O)2 O-Si (H)3-c (R4)c 【課題】接液部材として塩化ビニル樹脂を含む洗浄装置を用いるウェハの洗浄方法において用いる撥水性保護膜形成用薬液を提供すること。 【解決手段】 下記一般式［１］で表されるアルコキシシラン、及び 下記一般式［２］で表されるスルホン酸、該スルホン酸の無水物、該スルホン酸の塩、及び下記一般式［３］で表されるスルホン酸誘導体からなる群から選ばれる少なくとも１種、 並びに希釈溶媒を含み、 上記希釈溶媒が、炭化水素、エーテル、及び、チオールからなる群から選ばれる少なくとも１種の溶媒を含む薬液を用いる。 （Ｒ1）aＳｉ（Ｈ）b（ＯＲ2）4-a-b ［１］ Ｒ3－Ｓ（＝Ｏ）2ＯＨ ［２］ Ｒ3－Ｓ（＝Ｏ）2Ｏ－Ｓｉ（Ｈ）3-c（Ｒ4）c ［３］