A LITHOGRAPHIC APPARATUS, A PROJECTION SYSTEM, A LAST LENS ELEMENT, A LIQUID CONTROL MEMBER AND A DEVICE MANUFACTURING METHOD

A lithographic apparatus, a projection system for use with an immersion lithographic apparatus, a last lens element for a projection system, a liquid control member, and a device manufacturing method are disclosed. In one arrangement, a lithographic apparatus comprises a projection system PS) configured to project a patterned radiation beam (B) through the projection system onto a target portion of a substrate (W). A liquid confinement structure (12) confines an immersion liquid in a space (10) between the projection system and the substrate. The projection system comprising: an exit surface (104) through which to project the patterned radiation beam; and a further surface (110) facing the liquid confinement structure. The further surface has a first static receding contact angle with respect to the immersion liquid. The exit surface has a second static receding contact angle with respect to the immersion liquid. The first static receding contact angle is: greater than the second static receding contact angle; and less than 65 degrees. L'invention concerne un appareil lithographique, un système de projection destiné à être utilisé avec un appareil lithographique à immersion, un élément de dernière lentille destiné à un système de projection, un élément de commande de liquide, et un procédé de fabrication de dispositif. Dans un mode de réalisation, un appareil lithographique comprend un système de projection (PS) conçu pour projeter un faisceau de rayonnement à motif (B) à travers le système de projection sur une partie cible d'un substrat (W). Une structure de confinement de liquide (12) confine un liquide d'immersion dans un espace (10) entre le système de projection et le substrat. Le système de projection comprend : une surface de sortie (104) à travers laquelle il convient de projeter le faisceau de rayonnement à motif ; et une surface supplémentaire (110) tournée vers la structure de confinement de liquide. La surface supplémentaire a un premier angle de contact sortant statique par rapport au liquide d'immersion. La surface de sortie a un second angle de contact sortant statique par rapport au liquide d'immersion. Le premier angle de contact sortant statique est : supérieur au second angle de contact sortant statique ; et inférieur à 65 degrés.