VACUUM ARC FILM-FORMING APPARATUS AND FILM-FORMING METHOD

A vacuum arc film-forming apparatus for forming a ta-C film on a substrate using arc discharge comprises: a holding unit for holding a target part; an anode part into which electrons discharged from said target part flow; and an electric power source for supplying electric current for generating plasma between the target part and the anode part by arc discharge. The current that the electric power source supplies during said arc discharge is one in which a pulsed electric current with a pulse frequency of not more than 140 Hz is superimposed on a direct current. La présente invention concerne un appareil de formation de film à arc sous vide pour former un film ta-C sur un substrat au moyen d'une décharge d'arc qui comprend : une unité de maintien pour maintenir une partie cible ; une partie d'anode dans laquelle les électrons déchargés depuis ladite partie de cible circulent ; et une source d'alimentation électrique pour fournir un courant électrique pour générer un plasma entre la partie de cible et la partie d'anode par décharge d'arc. Le courant que la source d'alimentation électrique fournit pendant la décharge d'arc est un courant dans lequel un courant électrique pulsé avec une fréquence d'impulsion de pas plus de 140 Hz est superposé à un courant continu. アーク放電を用いて基板上にｔａ－Ｃ膜を形成する真空アーク成膜装置は、ターゲット部を保持する保持部と、前記ターゲット部から放出された電子が流入するアノード部と、前記ターゲット部と前記アノード部との間に、アーク放電によってプラズマを発生させる電流を供給する電源とを有し、前記アーク放電の際に前記電源が供給する電流は、直流電流に、１４０Ｈｚ以下のパルス周波数のパルス電流を重畳したものである。