SOURCE RF POWER SPLIT INNER COIL TO IMPROVE BCD AND ETCH DEPTH PERFORMANCE
A coil assembly comprises two or more coils, each of the two or more coils winds from a first end radially outward to a second end, the first ends of the two or more coils are joined together, and the second ends of the two or more coils are positioned at equal intervals. Also provided are an etch r...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | A coil assembly comprises two or more coils, each of the two or more coils winds from a first end radially outward to a second end, the first ends of the two or more coils are joined together, and the second ends of the two or more coils are positioned at equal intervals. Also provided are an etch reactor comprsing a coil assembly and a method for forming a trench using the etch reactor.
Selon la présente invention, un ensemble de bobines comprend deux ou plusieurs bobines, chacune des deux ou plusieurs bobines étant enroulée depuis une première extrémité radialement à l'extérieur vers une seconde extrémité, les premières extrémités des deux ou plusieurs bobines étant reliées l'une à l'autre, et les secondes extrémités des deux bobines ou plus étant espacées selon des intervalles égaux. L'invention concerne également un réacteur de gravure comprenant un ensemble de bobines et un procédé de formation d'un sillon à l'aide du réacteur de gravure. |
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