SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS

A reduced-pressure drying apparatus (substrate treatment apparatus) (40) is provided with: a treatment chamber (41) for treating a mother glass substrate (substrate) (MG) by housing the mother glass substrate (MG); a supporting pin (45) for supporting the mother glass substrate (MG) in the treatment chamber (41), said supporting pin (45) having a rotatably supporting section (46) that rotatably supports the mother glass substrate (MG); and a swinging section (47) that swings the mother glass substrate (MG) along the substrate surface, said mother glass substrate being supported by the rotatably supporting section (46) in the treatment chamber (41). L'invention concerne un appareil de séchage à pression réduite (appareil de traitement de substrat) (40) comprenant : une chambre de traitement (41) pour le traitement d'un substrat en verre parent (substrat) (MG) en hébergeant le substrat en verre parent (MG) ; une broche support (45) destinée à supporter le substrat en verre parent (MG) dans la chambre de traitement (41), ladite broche support (45) possédant une section de support en rotation (46) qui supporte en rotation le substrat en verre parent (MG) ; et une section oscillante (47) qui fait osciller le substrat en verre parent (MG) le long de la surface du substrat, ledit substrat en verre parent étant supporté par la section de support en rotation (46) dans la chambre de traitement (41). 減圧乾燥装置（基板処理装置）（４０）は、マザーガラス基板（基板）（ＭＧ）を収容してそのマザーガラス基板（ＭＧ）に処理を施すための処理室（４１）と、処理室（４１）内にてマザーガラス基板（ＭＧ）を支持する支持ピン（４５）であって、回転可能な形でマザーガラス基板（ＭＧ）を支持する回転支持部（４６）を有する支持ピン（４５）と、処理室（４１）内にて回転支持部（４６）により支持されたマザーガラス基板（ＭＧ）をその板面に沿って揺動させる揺動部（４７）と、を備える。