ALIGNMENT SYSTEM

An alignment system, method and lithographic apparatus are provided for determining the position of an alignment mark, the alignment system comprising a first system configured to produce two overlapping images of the alignment mark that are rotated by around 180 degrees with respect to one another,...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	HUISMAN, Simon, Reinald, BOGAART, Erik, Willem, SCHELLEKENS, Adrianus, Johannes, Hendrikus, MATHIJSSEN, Simon, Gijsbert, Josephus, POLO, Alessandro, COENE, Willem, Marie, Julia, Marcel, TINNEMANS, Patricius, Aloysius, Jacobus, YEGANEGI DASTGERDI, Elahe, DEN BOEF, Arie, Jeffrey
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	An alignment system, method and lithographic apparatus are provided for determining the position of an alignment mark, the alignment system comprising a first system configured to produce two overlapping images of the alignment mark that are rotated by around 180 degrees with respect to one another, and a second system configured to determine the position of the alignment mark from a spatial distribution of an intensity of the two overlapping images. La présente invention concerne un système d'alignement, un procédé et un appareil lithographique destinés à déterminer la position d'un repère d'alignement. Le système d'alignement comprend un premier système conçu pour produire deux images se chevauchant du repère d'alignement, qui sont mises en rotation d'environ 180 degrés l'une par rapport à l'autre, ainsi qu'un second système conçu pour déterminer la position du repère d'alignement à partir d'une répartition dans l'espace d'une intensité des deux images se chevauchant.