HIGHLY ALKALINE CLEANING CHLORINATED COMPOSITION WITH CHLORINE STABILISATION
The present invention relates to a highly alkaline chlorinated liquid cleaning composition comprising the components mentioned below: about ≥ 10 wt.-% to about ≤ 70 wt.-% of a source of chlorine; about ≥ 5 wt.-% to about ≤ 25 wt.-% of a source of alkalinity; about ≥ 0.2 wt.-% to 0.8 ≤ wt.-% of at le...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | The present invention relates to a highly alkaline chlorinated liquid cleaning composition comprising the components mentioned below: about ≥ 10 wt.-% to about ≤ 70 wt.-% of a source of chlorine; about ≥ 5 wt.-% to about ≤ 25 wt.-% of a source of alkalinity; about ≥ 0.2 wt.-% to 0.8 ≤ wt.-% of at least one complexing agent of methylglycinediacetate and/or carboxy-methylated polyethyleneimine; and water; wherein the weight amounts of the components are based on the total weight amount of the highly alkaline chlorinated liquid cleaning composition.
La présente invention concerne une composition de nettoyage liquide, chlorée, hautement alcaline, comprenant les constituants mentionnés ci-dessous : environ ≥ 10 % en poids à environ ≤ 70 % en poids d'une source de chlore ; environ ≥ 5 % en poids à environ ≤ 25 % d'une source d'alcalinité ; environ ≥ 0,2 % en poids à ≤ 0,8 % en poids d'au moins un agent complexant de diacétate de méthylglycine et/ou de polyéthylène-imine carboxyméthylée ; et de l'eau ; les quantités pondérales des constituants étant basées sur la quantité pondérale totale de la composition de nettoyage liquide, chlorée, hautement alcaline. |
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