RADIO FREQUENCY (RF) - SPUTTER DEPOSITION SOURCE, CONNECTOR FOR RETROFITTING A SPUTTER DEPOSITION SOURCE, APPARATUS AND METHOD OF OPERATING THEREOF

A deposition source for sputter deposition and a method of operating a deposition source for sputter deposition is provided. The deposition source (100) includes a rotatable cathode (110) having a first end (111) and a second end (112). Further, the deposition source includes an RF power supply (120) for providing the rotatable cathode with RF energy. The first end (112) of the rotatable cathode (110) is connected to a drive (130) for rotating the rotatable cathode (110) via a connecting portion (113), wherein a coil (140) is arranged around the connecting portion (113) for shielding the drive (130) from the RF energy. The method (300) includes feeding (310) a rotatable cathode with RF energy, and shielding (320) a drive (130) for rotating the rotatable cathode (110) from the RF energy. La présente invention concerne une source de dépôt pour le dépôt par pulvérisation cathodique et un procédé d'utilisation d'une source de dépôt pour le dépôt par pulvérisation cathodique. La source de dépôt (100) comprend une cathode rotative (110) comportant une première extrémité (111) et une seconde extrémité (112). La source de dépôt comprend également une alimentation radiofréquence (120) destinée à fournir de l'énergie radiofréquence à la cathode rotative. La première extrémité (112) de la cathode rotative (110) est connectée à un système d'entraînement (130) chargé de faire tourner la cathode rotative (110) par l'intermédiaire d'une partie de connexion (113), une bobine (140) étant disposée autour de la partie de connexion (113) pour protéger l'entraînement (130) de l'énergie radiofréquence. Le procédé (300) consiste à alimenter (310) une cathode rotative avec de l'énergie RF, et à protéger (320) un système d'entraînement (130) chargé de faire tourner la cathode rotative (110) au moyen de l'énergie radiofréquence.