FILM-FORMING APPARATUS AND FILM-FORMING-WORK MANUFACTURING METHOD

Provided are a film-forming apparatus and a film-forming-work manufacturing method with which it is possible, with a simple configuration, to form a film having a uniform thickness on a work having a plurality of surfaces, such as a three-dimensional object or the like. Included are: a target 21 for a film-forming material, which includes a plane SU3; a power source unit 3 that applies power to the target 21; a rotating part 4 that makes a work W, on which a film is to be formed, rotate about a rotation axis AX1; and a revolving part 5 that repeatedly moves the work W close to and away from the target 21 by making the rotating part 4 revolve about a revolution axis AX2, which is different from rotation axis AX1. During rotation and revolution, the rotation axis AX1 is fixed at an angle in which a rotation orbital plane SU1 that is orthogonal to the rotation axis AX1 has a first inclination angle θ1 with respect to a revolution orbital plane SU2 that is orthogonal to the revolution axis AX2, and the target 21 is fixed at an angle at which the plane SU3 has a second inclination angle θ2 with respect to the revolution orbital plane SU2. L'invention porte sur un appareil de formation de film et un procédé de fabrication d'ouvrage sur lequel un film est formé avec lesquels il est possible, avec une configuration simple, de former un film ayant une épaisseur uniforme sur un ouvrage ayant une pluralité de surfaces, tel qu'un objet tridimensionnel ou similaire. L'appareil comprend : une cible (21) pour un matériau filmogène, qui comprend un plan SU3 ; une unité source d'énergie (3) qui applique de l'énergie à la cible (21) ; une partie rotative (4) qui amène un ouvrage W, sur lequel un film doit être formé, à tourner autour d'un axe de rotation AX1 ; et une partie tournante (5) qui déplace de façon répétée l'ouvrage W vers la cible (21) et à l'opposé de cette dernière par le fait d'amener la partie tournante (4) à tourner autour d'un axe de révolution AX2, qui est différent de l'axe de rotation AX1. Pendant la rotation et la révolution, l'axe de rotation AX1 est fixé à un angle dans lequel un plan orbital de rotation SU1 qui est orthogonal à l'axe de rotation AX1 a un premier angle d'inclinaison θ1 par rapport à un plan orbital de révolution SU2 qui est orthogonal à l'axe de révolution AX2 et la cible (21) est fixée à un angle auquel le plan SU3 a un second angle d'inclinaison θ2 par rapport au plan orbital de révolution SU2. 簡素な構成で、立体物等の複数の面を有するワークに対して、均一な厚さで成膜する