MEASUREMENT OF CRITICAL DIMENSIONS OF NANOSTRUCTURES USING X-RAY GRAZING INCIDENCE IN-PLANE DIFFRACTION

The manufactured structure is illuminated with an x-ray beam. The manufactured structure is positioned at a selected grazing angle and a selected rotation angle with respect to the x-ray beam. The selected rotation angle has been selected to enhance in-plane diffraction of reflections of the x-ray beam by the manufactured structure. A grazing in-plane diffraction beam produced by interference with the periodic feature is detected. A property of the grazing in-plane diffraction beam is determined by the critical dimension. L'invention concerne une structure fabriquée qui est éclairée avec un faisceau de rayons X. La structure fabriquée est positionnée selon un angle rasant sélectionné et un angle de rotation sélectionné par rapport au faisceau de rayons X. L'angle de rotation sélectionné a été sélectionné afin d'améliorer une diffraction dans le plan des réflexions du faisceau de rayons X par la structure fabriquée. Un faisceau de diffraction rasante dans le plan produit par une interférence avec la caractéristique périodique est détecté. Une propriété du faisceau de diffraction rasante dans le plan est déterminée par la dimension critique.