RADIATION SOURCE

A laser radiation source for a lithographic tool comprising a laser module to emit a first laser beam having a first wavelength and a second laser beam having a second wavelength, a beam separation device to separate the optical paths of the first and second laser beams and substantially recombine the optical paths, a beam delivery system to direct the first and second laser beams to a fuel target and an optical isolation apparatus to: adjust the polarization state of the first laser beam, adjust the polarization state of the second laser beam and to block radiation having the adjusted polarization states such that the reflection of the first laser beam and the reflection of the second laser beam are substantially blocked from propagating towards the laser module. La présente invention concerne une source de rayonnement laser pour un outil lithographique comprenant un module laser pour émettre un premier faisceau laser ayant une première longueur d'onde et un second faisceau laser ayant une seconde longueur d'onde, un dispositif de séparation de faisceau pour séparer les chemins optiques des premier et second faisceaux laser et recombiner sensiblement les chemins optiques, un système de délivrance de faisceau pour diriger les premier et second faisceaux laser sur une cible de carburant et un appareil d'isolation optique pour : régler l'état de polarisation du premier faisceau laser, régler l'état de polarisation du second faisceau laser et bloquer un rayonnement ayant les états de polarisation réglés de telle sorte que l'on empêche sensiblement la réflexion du premier faisceau laser et la réflexion du second faisceau laser de se propager vers le module laser.