METHOD TO GENERATE HIGH QUALITY RANDOM MASK FROM SMALL ENTROPY SOURCE

The present invention relates to a method to generate a mask (M) of a predefined size of b*m bits, said method comprising the following steps: generating a random number of a limited number p of bits, providing the p bits random number as the input of a deterministic random number generator (RNG) that outputs a random number of length m, applying to the output random number of length m an expansion function (EFM) using an error correcting code function to multiply the length by b and obtain a mask (M) of a size of b*m bits, a reseeding function (RFM) being regularly applied to the random number generator (RNG). La présente invention concerne un procédé de production d'un masque (M) d'une taille prédéfinie de b*m bits. Le procédé comprend les étapes consistant à : produire un nombre aléatoire d'un nombre limité p de bits, fournir le nombre aléatoire de p bits comme l'entrée d'un générateur de nombre aléatoire déterministe (RNG) qui délivre un nombre aléatoire de longueur m, appliquer au nombre aléatoire sorti de longueur m une fonction d'expansion (EFM) à l'aide d'une fonction de code de correction d'erreur afin de multiplier la longueur par b et d'obtenir un masque (M) d'une taille de b*m bits, une fonction de réensemencement (RFM) étant régulièrement appliquée au générateur de nombre aléatoire (RNG).