COMPONENT, OPTICAL SYSTEM AND LITHOGRAPHY INSTALLATION

Es wird eine Komponente (200, 300, 400, 500, 600, 700, 800, 900, 1000, 1100) für eine Lithographieanlage (100), aufweisend ein thermisch leitendes Material mit einer thermischen Leitfähigkeit > 400, bevorzugt > 700 und weiter bevorzugt > 2000 W/(m⋅K), beschrieben. The invention relates to a...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	FIGUEREDO, STACY
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre ; ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Es wird eine Komponente (200, 300, 400, 500, 600, 700, 800, 900, 1000, 1100) für eine Lithographieanlage (100), aufweisend ein thermisch leitendes Material mit einer thermischen Leitfähigkeit > 400, bevorzugt > 700 und weiter bevorzugt > 2000 W/(m⋅K), beschrieben. The invention relates to a component (200, 300, 400, 500, 600, 700, 800, 900, 1000, 1100) for a lithography installation (100), comprising a thermally conductive material with a thermal conductivity of > 400, preferably > 700 and more preferably > 2000 W/(m⋅K). L'invention concerne un composant (200, 300, 400, 500, 600, 700, 800, 900, 1000, 1100) pour une installation de lithographie (100) présentant un matériau thermiquement conducteur possédant une conductivité thermique > 400, de préférence > 700 et de préférence encore > 2000 W/(m⋅K).