PROJECTION EXPOSURE APPARATUS WITH AT LEAST ONE MANIPULATOR

A projection exposure apparatus (10) for microlithography comprises a projection lens (22) for imaging mask structures, at least one manipulator (M1-M4), which is configured to change an optical effect of at least one optical element (E1-E4) of the projection lens by manipulating a property of the optical element along a travel, and a travel establishing device (40) for generating a travel command (50) for the at least one manipulator. In this case, the travel establishing device (40) is configured firstly to generate a first travel command from a first state characterization (64a) of the projection lens by executing an optimization algorithm (42) with at least one work variable (48), the optimization algorithm (42) is configured to change a value of the work variable in the course of the optimization and to save the value of the work variable (48) that is present at the end of the optimization as a transfer value. The travel establishing device (40) is furthermore configured to generate a further travel command (50) from a further state characterization (64a) of the projection lens, said further state characterization being updated relative to the first state characterization, by repeated execution of the optimization algorithm and in the process to use the saved transfer value as a start value of the at least one work variable (48). L'invention concerne un appareil d'exposition par projection pour la micro-lithographie (10) qui comprend : un objectif de projection (22) pour former en images des structures de masquage, au moins un manipulateur (M1 à M4) qui est configuré pour modifier un effet optique d'au moins un élément optique (E1 à E4) de l'objectif de projection par la manipulation d'une propriété de l'élément optique le long d'un trajet, ainsi qu'un dispositif d'établissement de déplacement (40) permettant de générer un ordre de déplacement (50) pour le ou les manipulateurs. Dans ce cas, le dispositif d'établissement de déplacement (40) est configuré tout d'abord pour générer un premier ordre de déplacement à partir d'une première caractérisation d'état (64a) de l'objectif de projection par l'exécution d'un algorithme d'optimisation (42) avec au moins une variable de travail (48), l'algorithme d'optimisation (42) étant configuré pour modifier une valeur de la variable de travail au cours de l'optimisation et pour sauvegarder la valeur de la variable de travail (48) présente à la fin de l'optimisation en tant que valeur de transfert. Le dispositif d