APPARATUS AND METHOD FOR TREATMENT OF FLEXIBLE SUBSTRATES HAVING A LARGE WIDTH USING AN ELECTRON BEAM

According to the present disclosure, a charged particle device for treatment of a substrate and method for increasing the extraction efficiency of a charged particle device are provided. The charged particle device includes: a housing providing a first electrode, the housing having a back wall and a front wall; a slit opening in the housing; and a second electrode being arranged within the housing and having a first side facing the slit opening. The second electrode includes one or more beam shaping extension that protrude from the second electrode in a direction towards the front wall of the housing for guiding the charged particle beam through the slit opening. La présente invention concerne un dispositif à particules chargées permettant le traitement d'un substrat et un procédé permettant d'accroître l'efficacité d'extraction d'un dispositif à particules chargées. Le dispositif à particules chargées comprend : un boîtier pourvu d'une première électrode, le boîtier comportant une paroi arrière et une paroi avant ; une ouverture en fente ménagée dans le boîtier ; et une seconde électrode agencée à l'intérieur du boîtier et comportant un premier côté faisant face à l'ouverture en fente. La seconde électrode comprend un ou plusieurs prolongements de formation de faisceau qui font saillie à partir de la seconde électrode en direction de la paroi avant du boîtier en vue de guider le faisceau de particules chargées à travers l'ouverture en fente.