EUV LITHOGRAPHY SYSTEM AND OPERATING METHOD

Die Erfindung betrifft ein EUV-Lithographiesystem (1), umfassend: mindestens ein optisches Element (13, 14) mit einer optischen Oberfläche (13a, 14a), die in einer Vakuum-Umgebung (17) des EUV-Lithographiesystems (1) angeordnet ist, sowie eine Zuführungseinrichtung (27) zur Zuführung von Wasserstoff...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	OSORIO, EDGAR, SCHMIDT, STEFAN-WOLFGANG, TE SLIGTE, EDWIN, LOGTENBERG, HELLA, ZELLENRATH, MARK, EHM, DIRK HEINRICH
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre ; ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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