TOP LAMP MODULE FOR CAROUSEL DEPOSITION CHAMBER

A heating module for use in a substrate processing chamber. The heating module having a housing with a heat source therein. The heating module can be part of a gas distribution assembly positioned above a susceptor assembly to heat the top surface of the susceptor and wafers directly. The heating module can have constant or variable power output. Processing chambers and methods of processing a wafer using the heating module are described. L'invention concerne un module de chauffage à utiliser dans une chambre de traitement de substrats. Le module de chauffage comprend un boîtier ayant une source de chaleur à l'intérieur. Le module de chauffage peut faire partie d'un ensemble de distribution de gaz positionné au-dessus d'un ensemble suscepteur pour chauffer directement la surface supérieure du suscepteur et des tranches. Le module de chauffage peut avoir une puissance de sortie constante ou variable. Des chambres de traitement et des procédés de traitement d'une tranche utilisant le module de chauffage sont également décrits.