F-POSS COATINGS AND ADDITIVES AND METHODS OF MAKING SAME

Fluorinated polyhedral oligomeric silsesquioxane ("F-POSS") copolymers and terpolymers useful in the field of coatings for enhancing performance of materials surfaces. Also disclosed are methods for making such copolymers and terpolymers. La présente invention concerne des copolymères et d...

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Hauptverfasser: CATCHINGS, PERRY L, SR, ZHANG, BONG JUNE
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:Fluorinated polyhedral oligomeric silsesquioxane ("F-POSS") copolymers and terpolymers useful in the field of coatings for enhancing performance of materials surfaces. Also disclosed are methods for making such copolymers and terpolymers. La présente invention concerne des copolymères et des terpolymères de silsesquioxane oligomère polyédrique fluoré ("F-POSS") qui sont utiles dans le domaine des revêtements pour améliorer l'efficacité des surfaces de matériaux. L'invention concerne également des procédés de fabrication de tels copolymères et terpolymères.