FILM FORMATION APPARATUS AND FILM FORMATION METHOD

A film formation apparatus is configured so as to be equipped with: a film-forming chamber for forming a thin film using plasma on a substrate at a film formation position; an abnormal discharge-detecting section for detecting an abnormal discharge of the plasma; an imaging device for imaging abnormal plasma, which is the plasma when an abnormal discharge is detected, or an abnormal substrate surface, which is the substrate surface on which a thin film is formed when an abnormal discharge is detected; and a storage unit for storing the images taken by the imaging device. L'invention concerne un appareil de formation de film, conçu de manière à être pourvu de : une chambre de formation de film pour la formation d'un film mince à l'aide de plasma sur un substrat au niveau d'une position de formation de film ; une section de détection de décharge anormale pour la détection d'une décharge anormale du plasma ; un dispositif d'imagerie pour l'imagerie de plasma anormal, qui est le plasma lorsqu'une décharge anormale est détectée, ou d'une surface de substrat anormale, qui est la surface du substrat sur laquelle un film mince est formé lorsqu'une décharge anormale est détectée ; et une unité de stockage pour le stockage des images prises par le dispositif d'imagerie. プラズマを用い成膜位置において基材上に薄膜を形成する成膜室と、前記プラズマの異常放電を検出する異常放電検出部と、前記異常放電が検出されたときのプラズマである異常時プラズマ、又は、前記異常放電が検出されたときに薄膜が形成された基材面である異常時基材面を撮像する撮像装置と、前記撮像装置によって撮像された画像を記憶する記憶部と、を備えるように成膜装置を構成する。