COATING FILM, MANUFACTURING METHOD FOR SAME, AND PVD DEVICE

Provided are a coating film, a manufacturing method for the same, and a PVD device that not only sufficiently improve the balance of low-friction properties and wear resistance, but also improve chipping resistance (defect resistance) and peeling resistance. This coating film coats a substrate surface, wherein a hard carbon layer is formed extending in columns perpendicular to the substrate when observed in a cross-sectional bright-field TEM image, the hard carbon layer is formed using a PVD method, and the ID/IG ratio is 1-6, said ratio being the ratio of the Raman spectrum D band peak area intensity and G band peak area intensity when the hard carbon layer is measured using Raman spectroscopy. The coating film manufacturing method and the device use an arc PVD method, and while controlling the bias voltage, arc current, heater temperature and/or furnace pressure to maintain a substrate temperature of 250-400°C, also coat the substrate surface with the hard carbon film by rotating and/or revolving the substrate. L'invention concerne un film de revêtement, son procédé de fabrication, et un dispositif de dépôt physique en phase vapeur qui non seulement améliore suffisamment l'équilibre des propriétés de faible friction et de résistance à l'usure, mais améliore également la résistance à l'écaillage (résistance aux défauts) et la résistance au pelage. Ce film de revêtement revêt une surface de substrat, une couche de carbone dur étant formée de manière à s'étendre en colonnes perpendiculaires au substrat lorsque celui-ci est observé dans une image de TEM à champ clair d'une section transversale, la couche de carbone dur étant formée à l'aide d'un procédé de dépôt physique en phase vapeur, et le rapport ID/IG étant de 1 à 6, ledit rapport étant le rapport de l'intensité de la superficie de la bande D du spectre Raman à l'intensité de la superficie du pic de la bande G lorsque la couche de carbone dur est mesurée en spectroscopie Raman. Le procédé de fabrication du film de revêtement et le dispositif utilisent un procédé de dépôt physique en phase vapeur à arc, et tout en régulant la tension de polarisation, un courant d'arc, une température de chauffage et/ou une pression de four pour maintenir une température de substrat de 250 à 400 °C, et revêtent également la surface du substrat avec le film de carbone dur par rotation et/ou révolution du substrat. 低摩擦性と耐摩耗性の両立を十分に改善させるだけでなく、耐チッピング性（耐欠損性）や耐剥離性の改善も図られた被覆膜とその製造方法およびＰＶＤ装置を提供する。 基材の表面に被覆される被覆膜であって、断面を明視野ＴＥＭ像に