COATING FILM, MANUFACTURING METHOD FOR SAME, AND PVD DEVICE

Provided are a coating film, a manufacturing method for the same, and a PVD device that not only sufficiently improve the balance of low-friction properties and wear resistance, but also improve chipping resistance and peeling resistance. This film coats a substrate surface, wherein the coating film...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: SHIBATA, AKINORI, OGAWA, KATSUAKI, OKAZAKI, TAKAHIRO, SUGIURA, HIROYUKI, ITO, YOSHIHIRO, SAITO, TAKASHI, ARAHI, TETSUMI, TANAKA, YOSHIKAZU, MORIGUCHI, HIDEKI
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; jpn
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:Provided are a coating film, a manufacturing method for the same, and a PVD device that not only sufficiently improve the balance of low-friction properties and wear resistance, but also improve chipping resistance and peeling resistance. This film coats a substrate surface, wherein the coating film has a hard carbon that presents relatively black and white when observed in a cross-sectional bright-field TEM image, a net-shaped hard carbon layer is formed using a PVD method, said layer having white-colored hard carbon in a net shape extending in the thickness direction and black-colored hard carbon dispersed into the holes in the net, and the ID/IG ratio is 1-6, said ratio being the ratio of the Raman spectrum D band peak area intensity and G band peak area intensity when the net-shaped hard carbon layer is measured using Raman spectroscopy. The coating film manufacturing method and the device use an arc PVD method, and while controlling the bias voltage, arc current, and heater temperature, etc. to maintain a substrate temperature exceeding 200°C but not exceeding 300°C, also coat the substrate surface with the hard carbon film by rotating and/or revolving the substrate. L'invention concerne un film de revêtement, un procédé pour sa fabrication, et un dispositif de dépôt physique en phase vapeur qui non seulement améliore suffisamment l'équilibre des propriétés de faible frottement et de la résistance à l'usure, mais améliore également la résistance à l'écaillage et la résistance au pelage. Ce film recouvre une surface de substrat, le film de revêtement ayant un carbone dur relativement noir et blanc lorsqu'il est observé suivant une image TEM en coupe transversale à champ clair, une couche de carbone dur en forme de filet est formée à l'aide d'un procédé de dépôt physique en phase vapeur, ladite couche ayant un carbone dur de couleur blanche en forme de filet s'étendant dans la direction de l'épaisseur et un carbone dur de couleur noire dispersé dans les trous dans le filet, et le rapport ID/IG est de 1-6, ledit rapport étant le rapport de l'intensité de la zone de pic de la bande D du spectre Raman et de l'intensité de la zone de pic de la bande G lorsque la couche de carbone dur en forme de filet est mesurée à l'aide d'une spectroscopie Raman. Le procédé de fabrication de film de revêtement et le dispositif utilisent un procédé de dépôt physique en phase vapeur à arc, tout en contrôlant la tension de polarisation, le courant d'arc, et la température de