DEVICE FOR APPLYING FUNCTIONAL LAYERS OF THIN-FILM SOLAR CELLS TO SUBSTRATE

The invention relates to plasma technology, and specifically to devices for the plasma deposition of films, and may be used for preparing thin-film solar cells, for preparing photosensitive materials for optical sensors and thin-film transistors of large displays, and for applying protective coatings. The aim of the invention consists in creating a device which allows for depositing homogeneous functional layers of large-area thin-film solar cells. The aim is achieved in that the application of functional layers of thin-film solar cells involves using a known gas-discharge device based on transformer-type low-frequency inductive discharge, in a novel way, so as to apply functional layers of thin-film solar cells. The device includes, separated by gas gateways, two or more reaction chambers having a movable band-like substrate, and discharge chambers with magnetic cores, which are carried out in such a way that two or more transformer-type low-frequency inductive discharge plasma coils burn in each reaction chamber. L'invention se rapporte au domaine des techniques plasmiques, concerne notamment des dispositifs pour la déposition plasmique de films, et peut être utilisée pour la fabrication d'éléments solaires à film fin, de matériaux photosensibles pour des capteurs optiques et des transistors à film fin d'affichages de grande taille, et pour appliquer des revêtements de protection. Le but de la présente invention est d'élaborer un dispositif permettant de déposer des couches fonctionnelles uniformes d'éléments solaires à film fin d'une grande superficie. A cette fin, en vue de l'application de couches fonctionnelles d'éléments solaires à film fin consiste à employer un dispositif à décharge de gaz connu de l'art antérieur utilisant une décharge à induction basse fréquence de type transformateur, selon une nouvelle vocation, afin d'appliquer des couches fonctionnelles uniformes d'éléments solaires à film fin. Le dispositif comprend deux chambres de réaction ou plus séparées par des vannes à gaz avec un substrat de type film, et des chambres à décharge avec des conducteurs magnétiques, lesquelles sont conçues de sorte que dans chaque chambre de réaction brûlent deux enroulements plasmiques ou plus de décharge à induction basse fréquence de type transformateur. Изобретение относится к плазменной технике, а именно, к устройствам для плазменного осаждения пленок, и может быть использовано для изготовления тонкопленочных солнечных элементов, фоточувствительны