SUBSTRATE-TRANSPORTING ION BEAM EXFOLIATION SYSTEM

In one embodiment, a system for exfoliating a crystalline lamina from an implanted crystalline donor substrate comprises substrate supports attached to a transporting structure, where the supports are configured to support an implanted crystalline donor substrate by a vacuum (e.g., with an implanted surface in contact with the vacuum). The transporting structure is configured to sequentially transport the substrate supports from a loading station, through one or more heating modules and a cleaving module (where the crystalline lamina is thermally cleaved from the implanted crystalline donor substrate along a cleave plane while the lamina remains in contact with the vacuum), and then to an unloading station. Selon un mode de réalisation, l'invention concerne un système pour exfolier une lamelle cristalline d'un substrat donneur cristallin implanté, qui comprend des supports de substrat fixés à une structure de transport, les supports étant conçus pour soutenir un substrat donneur cristallin implanté par aspiration (par exemple, avec une surface implantée en contact avec le vide). La structure de transport est conçus pour transporter séquentiellement les supports de substrat à partir d'un poste de chargement, à travers un ou plusieurs modules de chauffage et un module de clivage (dans lequel la lamelle cristalline est thermiquement clivée du substrat donneur cristallin implanté le long d'un plan de clivage, la lamelle restant en contact avec le vide), et enfin jusqu'à un poste de déchargement.