RELIEF MOULD PRODUCTION METHOD, MEMBRANE PRODUCED BY USING RELIEF MOULD AND PRODUCTION METHOD THEREFOR

The present invention relates to a relief mould production method, to a membrane produced by using the relief mould and to a production method therefor, and the present invention comprises: a step of forming a first anode oxide layer by subjecting a metal surface for an intaglio mould to anode oxidation; a step of forming a nanosheet sunken into the metal surface for the intaglio mould, by removing the first anode oxide layer; a step of forming a second anode oxide layer via anode oxide on the nanosheet; a step of forming a nanopattern of increased diameter and depth relative to the nanosheet, by etching the second anode oxide layer in the nanosheet region; and a step of obtaining an anode mould by vapour depositing and demoulding an anode-mould material on a metal for intaglio moulding on which the nanopattern is formed. La présente invention concerne un procédé de production d'un moule en relief, une membrane produite en utilisant le moule en relief et un procédé de production associé, et la présente invention comprend : une étape de formation d'une première couche d'oxyde d'anode en soumettant une surface en métal destinée à un moule en creux à une oxydation anodique ; une étape de formation d'une nanofeuille immergée dans la surface en métal pour le moule en creux, en retirant la première couche d'oxyde d'anode ; une étape de formation d'une seconde couche d'oxyde d'anode par l'intermédiaire de l'oxyde d'anode sur la nanofeuille ; une étape de formation d'un nanomotif de diamètre et profondeur accrus par rapport à la nanofeuille, par attaque chimique de la seconde couche d'oxyde d'anode dans la région de nanofeuille ; et une étape d'obtention d'un moule d'anode par dépôt à la vapeur et démoulage d'un matériau de moule d'anode sur un métal pour moulage en creux sur lequel est formé le nanomotif. 본 발명은 양각 몰드 제조방법， 양각 몰드를 이용하여 제조한 막 및 그 제조방법에 관한 것으로， 음각 몰드용 금속 표면을 양극산학하여 제 1양극 산학층을 형성하는 단계와; 상기 제 1양극산학층을 제거하여 상기 음각 몰드용 금속표면에 함몰된 나노시드를 형성하는 단계와; 상기 나노시드에 양극산학를 통해 제 2양극산학층을 형성하는 단계와; 상기 나노시드 영역의 상기 제 2양극산학층을 식각하여 상기 나노시드보다 직경 및 깊이가 증가한 나노패턴을 형성하는 단계; 및 상기 나노패턴이 형성된 음각몰드용금속에 양각몰드용소재를 증착 및 탈형하여 양각몰드를 얻는단계를포함하는것을기술적 요지로한다.