TARGET, APPARATUS AND PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF MOLYBDENUM-100 TARGETS
Apparatuses and methods for production of molybdenum targets, and the formed molybdenum targets, used to produce Tc-99m are described. The target includes a copper support plate having a front face and a back face. The copper support plate desirably has dimensions of thickness of about 2.8 mm, a len...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | Apparatuses and methods for production of molybdenum targets, and the formed molybdenum targets, used to produce Tc-99m are described. The target includes a copper support plate having a front face and a back face. The copper support plate desirably has dimensions of thickness of about 2.8 mm, a length of about 65 mm and a width of about 30 mm; and the copper support plate desirably has either a circular or an elliptical cavity centrally formed therein by pressing molybdenum powder into the front face with a depth of about 200-400 microns. Also, the copper support plate includes cooling channels dispensed at the back face; wherein the copper support plate is water cooled by a flow of water during irradiation by a proton beam. Molybdenum powder is embedded and compressed onto the cavity of the copper support plate thereby creating a thin layer of molybdenum onto the copper support plate.
L'invention porte sur des appareils et des procédés de fabrication de cibles en molybdène, ainsi que sur les cibles en molybdène ainsi formées, utilisées pour produire du Tc-99m. La cible comprend une plaque de support en cuivre présentant une face avant et une face arrière. La plaque de support en cuivre possède de préférence des dimensions qui ont une épaisseur d'environ 2,8 mm, une longueur d'environ 65 mm et une largeur d'environ 30 mm ; et la plaque de support en cuivre présente de préférence une cavité circulaire ou elliptique formée de façon centrale en son sein par compression de poudre de molybdène dans la face avant avec une profondeur d'environ 200 à 400 microns. La plaque de support en cuivre comprend également des canaux de refroidissement distribués au niveau de la face arrière ; la plaque de support en cuivre étant refroidie par eau par un écoulement d'eau pendant son exposition à un faisceau de protons. La poudre de molybdène est enfoncée et comprimée dans la cavité de la plaque de support en cuivre, ce qui permet de créer une couche mince de molybdène sur la plaque de support en cuivre. |
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