A LITHOGRAPHIC APPARATUS AND AN OBJECT POSITIONING SYSTEM

A lithographic apparatus comprising an object table which carries an object. The lithographic apparatus may further comprise at least one sensor as part of a measurement system to measure a characteristic of the object table, the environment surrounding the lithographic apparatus or another component of the lithographic apparatus. The measured characteristic may be used to estimate the deformation of the object due to varying loads during operation of the lithographic apparatus, for example varying loads induced by a two- phase flow in a channel formed within the object table. Additionally, or alternatively, the lithographic apparatus comprises a predictor to estimate the deformation of the object based on a model. The positioning of the object table carrying the object can be controlled based on the estimated deformation. The positioning of a projection beam, used to pattern a substrate, can be controlled relative to the object, to alter the position of the pattern and/or the projection beam on the substrate, based on the estimated deformation. L'invention concerne un appareil lithographique comprenant une table d'objet qui supporte un objet. L'appareil lithographique peut en outre comprendre au moins un capteur en tant que partie d'un système de mesure pour mesurer une caractéristique de la table d'objet, l'environnement entourant l'appareil lithographique, ou un autre composant de l'appareil lithographique. La caractéristique mesurée peut être utilisée pour estimer la déformation de l'objet due à des charges variables pendant le fonctionnement de l'appareil lithographique, par exemple des charges variables induites par un écoulement à deux phases dans un canal formé à l'intérieur de la table d'objet. De plus, ou selon une autre solution, l'appareil lithographique comprend une unité de prédiction pour estimer la déformation de l'objet en fonction d'un modèle. Le positionnement de la table d'objet supportant l'objet peut être commandé en fonction de la déformation estimée. Le positionnement d'un faisceau de projection, utilisé pour former un motif sur un substrat, peut être commandé par rapport à l'objet afin de modifier la position du motif et/ou du faisceau de projection sur le substrat, en fonction de la déformation estimée.