EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE

An initial pulse of radiation is generated; a section of the initial pulse of radiation is extracted to form a modified pulse of radiation, the modified pulse of radiation including a first portion and a second portion, the first portion being temporally connected to the second portion, and the first portion having a maximum energy that is less than a maximum energy of the second portion; the first portion of the modified pulse of radiation is interacted with a target material to form a modified target; and the second portion of the modified pulse of radiation is interacted with the modified target to generate plasma that emits extreme ultraviolet (EUV) light. Selon l'invention, une première impulsion de rayonnement est générée; une section de la première impulsion de rayonnement est extraite pour former une impulsion de rayonnement modifiée, l'impulsion de rayonnement modifiée comprenant une première partie et une seconde partie, la première partie étant temporellement reliée à la seconde partie et la première partie ayant une énergie maximale qui est inférieure à une énergie maximale de la seconde partie; la première partie de l'impulsion de rayonnement modifiée est soumise à une interaction avec un matériau cible pour former une cible modifiée; et la seconde partie de l'impulsion de rayonnement modifiée est soumise à une interaction avec la cible modifiée pour générer un plasma qui émet de la lumière ultraviolette extrême (EUV).