METHOD FOR TREATING SURFACE OF METAL INTERIOR AND EXTERIOR MATERIAL, WHICH FORMS ALUMINUM EQUIAXED GRAIN STRUCTURE, THROUGH CVD PROCESS, AND METAL INTERIOR AND EXTERIOR MATERIAL SURFACE-TREATED USING SAME

The present invention relates to a method for treating a surface of a metal interior and exterior material, which forms an aluminum equiaxed grain structure, through a CVD process, and a metal interior and exterior material surface-treated using the same. More specifically, the present invention relates to a method for treating a surface of a metal interior and exterior material, comprising the steps of: forming a thin film layer of an equiaxed grain structure by coating aluminum (Al)-based metal on a surface of a metal interior and exterior material; forming an anodic oxide film layer by anodizing the surface on which the thin film layer is formed; and coloring a dye on the anodic oxide film layer and sealing the same, wherein the thin film of the equiaxed grain structure is formed through a CVD process. According to the present invention, it is possible to uniformly form a thin film layer of an equiaxed grain structure at a temperature less than two-thirds of the melting point of aluminum through a CVD process, thereby reducing a burden of a production facility at the same time as reducing thermal deformation of a base material and raising economical efficiency. La présente invention concerne un procédé de traitement d'une surface d'un matériau intérieur et extérieur métallique, qui forme une structure granuleuse équiaxe en aluminium, par un processus de dépôt chimique en phase vapeur, et une surface de matériau intérieur et extérieur métallique traité ainsi. Plus spécifiquement, la présente invention concerne un procédé de traitement d'une surface d'un matériau intérieur et extérieur métallique, comprenant les étapes suivantes : formation d'une fine couche de film d'une structure granuleuse équiaxe par revêtement d'un métal à base d'aluminium (Al) sur une surface d'un matériau intérieur et extérieur métallique ; formation d'une couche de film d'oxyde anodique par anodisation de la surface sur laquelle la couche de film mince est formée ; et application d'un colorant sur la couche de film d'oxyde anodique et scellement, ledit film mince de la structure granuleuse équiaxe étant formée par un processus de dépôt chimique en phase vapeur. Selon la présente invention, il est possible de former de façon uniforme une couche de film mince d'une structure granuleuse équiaxe à une température inférieure à deux tiers du point de fusion de l'aluminium par un processus de dépôt chimique en phase vapeur, ce qui permet de réduire une charge d'une installation de produc