DEVICE AND METHOD FOR GENERATING VAPOR FOR A CVD- OR PVD DEVICE
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Erzeugen eines Dampfes in einer CVD- oder PVD-Einrichtung, bei dem auf feste oder flüssige Partikel durch Inkontaktbringen an eine erste, auf eine Verdampfungstemperatur gebrachte Wärmeübertragungsfläche einer ein- oder mehrstufigen Verda...
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| Format: | Patent |
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| creator | POQUÉ, ANDREAS BECCARD, BIRGIT IRMGARD CREMER, CLAUDIA TRIMBORN, KARL-HEINZ LONG, MICHAEL EICHLER, ANDY |
| description | Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Erzeugen eines Dampfes in einer CVD- oder PVD-Einrichtung, bei dem auf feste oder flüssige Partikel durch Inkontaktbringen an eine erste, auf eine Verdampfungstemperatur gebrachte Wärmeübertragungsfläche einer ein- oder mehrstufigen Verdampfungseinrichtung (1, 2) Verdampfungswärme übertragen wird und der durch Verdampfen der Partikel erzeugte Dampf von einem Trägergas in einer Strömungsrichtung des Trägergases aus der Verdampfungseinrichtung (1, 2) transportiert wird. Erfindungsgemäß wird der Dampf vom Trägergas durch eine in Strömungsrichtung hinter der Verdampfungseinrichtung (1, 2) angeordneten ein- oder mehrstufigen Modulationseinrichtung (3, 4) transportiert, welche Modulationseinrichtung (3, 4) zweite Wärmeübertragungsflächen aufweist, die in einer Dampflieferphase auf eine erste Modulationstemperatur temperiert werden, bei der der Dampf ohne Kondensation an den zweiten Wärmeübertragungsflächen durch die Modulationseinrichtung (3, 4) hindurchtritt, und die in einer Unterbrechungsphase auf eine zweite Modulationstem- peratur temperiert werden, bei der zumindest ein Teil des Dampfes an den zweiten Wärmeübertragungsflächen kondensiert. Die Kühlung kann durch ein Kühlgas erfolgen.
The invention pertains to a device and a method for generating vapor in a CVD or PVD device. In the method, the heat of vaporization is transferred to solid or liquid particles by bringing the particles into contact with a first heat transfer surface, which has reached a vaporization temperature, of a single or multistage vaporization device (1, 2), and the vapor generated by vaporizing the particles is transported by a carrier gas out of the vaporization device (1 ,2) in the direction of the carrier gas flow. According to the invention, the vapor is transported by the carrier gas through a single or multistage modulation device (3, 4) arranged after the vaporization device (1 ,2) in the direction of the carrier gas flow. The modulation device (3, 4) has second heat transfer surfaces which are adjusted to a first modulation temperature, at which the vapor passes through the modulation device (3, 4) without condensing on the second heat transfer surfaces, in a vapor transfer phase, and which are adjusted to a second modulation temperature, at which at least some of the vapor condenses on the second heat transfer surfaces, in an intermission phase. Cooling can be performed with a cooling gas.
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The invention pertains to a device and a method for generating vapor in a CVD or PVD device. In the method, the heat of vaporization is transferred to solid or liquid particles by bringing the particles into contact with a first heat transfer surface, which has reached a vaporization temperature, of a single or multistage vaporization device (1, 2), and the vapor generated by vaporizing the particles is transported by a carrier gas out of the vaporization device (1 ,2) in the direction of the carrier gas flow. According to the invention, the vapor is transported by the carrier gas through a single or multistage modulation device (3, 4) arranged after the vaporization device (1 ,2) in the direction of the carrier gas flow. The modulation device (3, 4) has second heat transfer surfaces which are adjusted to a first modulation temperature, at which the vapor passes through the modulation device (3, 4) without condensing on the second heat transfer surfaces, in a vapor transfer phase, and which are adjusted to a second modulation temperature, at which at least some of the vapor condenses on the second heat transfer surfaces, in an intermission phase. Cooling can be performed with a cooling gas.
L'invention concerne un dispositif et un procédé de génération de vapeur dans un dispositif CVD ou PVD, procédé dans lequel de la chaleur d'évaporation est transférée à des particules solides ou liquides par mise en contact avec une première surface de transfert de chaleur, portée à une température d'évaporation, d'un dispositif d'évaporation (1, 2) à un ou plusieurs étages et dans lequel la vapeur générée par l'évaporation des particules est emportée du dispositif d'évaporation (1, 2) par un gaz porteur dans une direction d'écoulement du gaz porteur. Selon l'invention, la vapeur est transportée par le gaz porteur à travers un dispositif de modulation (3, 4), à une ou en plusieurs étages, disposé en aval du dispositif d'évaporation (1, 2) dans la direction d'écoulement, lequel dispositif de modulation (3, 4) comporte des secondes surfaces de transfert de chaleur qui sont chauffées dans une phase d'alimentation en vapeur à une première température de modulation à laquelle la vapeur traverse le dispositif de modulation (3, 4) sans condensation au niveau des secondes surfaces de transfert de chaleur et qui sont régulées en température, dans une phase d'interruption, à une seconde température de modulation à laquelle au moins une partie de la vapeur se condense au niveau des secondes surfaces de transfert de chaleur. Le refroidissement peut être effectué par un gaz de refroidissement.</description><language>eng ; fre ; ger</language><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT ; CHEMISTRY ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL ; COATING METALLIC MATERIAL ; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL ; METALLURGY ; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><creationdate>2016</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20160107&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2016000958A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76290</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20160107&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2016000958A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>POQUÉ, ANDREAS</creatorcontrib><creatorcontrib>BECCARD, BIRGIT IRMGARD</creatorcontrib><creatorcontrib>CREMER, CLAUDIA</creatorcontrib><creatorcontrib>TRIMBORN, KARL-HEINZ</creatorcontrib><creatorcontrib>LONG, MICHAEL</creatorcontrib><creatorcontrib>EICHLER, ANDY</creatorcontrib><title>DEVICE AND METHOD FOR GENERATING VAPOR FOR A CVD- OR PVD DEVICE</title><description>Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Erzeugen eines Dampfes in einer CVD- oder PVD-Einrichtung, bei dem auf feste oder flüssige Partikel durch Inkontaktbringen an eine erste, auf eine Verdampfungstemperatur gebrachte Wärmeübertragungsfläche einer ein- oder mehrstufigen Verdampfungseinrichtung (1, 2) Verdampfungswärme übertragen wird und der durch Verdampfen der Partikel erzeugte Dampf von einem Trägergas in einer Strömungsrichtung des Trägergases aus der Verdampfungseinrichtung (1, 2) transportiert wird. Erfindungsgemäß wird der Dampf vom Trägergas durch eine in Strömungsrichtung hinter der Verdampfungseinrichtung (1, 2) angeordneten ein- oder mehrstufigen Modulationseinrichtung (3, 4) transportiert, welche Modulationseinrichtung (3, 4) zweite Wärmeübertragungsflächen aufweist, die in einer Dampflieferphase auf eine erste Modulationstemperatur temperiert werden, bei der der Dampf ohne Kondensation an den zweiten Wärmeübertragungsflächen durch die Modulationseinrichtung (3, 4) hindurchtritt, und die in einer Unterbrechungsphase auf eine zweite Modulationstem- peratur temperiert werden, bei der zumindest ein Teil des Dampfes an den zweiten Wärmeübertragungsflächen kondensiert. Die Kühlung kann durch ein Kühlgas erfolgen.
The invention pertains to a device and a method for generating vapor in a CVD or PVD device. In the method, the heat of vaporization is transferred to solid or liquid particles by bringing the particles into contact with a first heat transfer surface, which has reached a vaporization temperature, of a single or multistage vaporization device (1, 2), and the vapor generated by vaporizing the particles is transported by a carrier gas out of the vaporization device (1 ,2) in the direction of the carrier gas flow. According to the invention, the vapor is transported by the carrier gas through a single or multistage modulation device (3, 4) arranged after the vaporization device (1 ,2) in the direction of the carrier gas flow. The modulation device (3, 4) has second heat transfer surfaces which are adjusted to a first modulation temperature, at which the vapor passes through the modulation device (3, 4) without condensing on the second heat transfer surfaces, in a vapor transfer phase, and which are adjusted to a second modulation temperature, at which at least some of the vapor condenses on the second heat transfer surfaces, in an intermission phase. Cooling can be performed with a cooling gas.
L'invention concerne un dispositif et un procédé de génération de vapeur dans un dispositif CVD ou PVD, procédé dans lequel de la chaleur d'évaporation est transférée à des particules solides ou liquides par mise en contact avec une première surface de transfert de chaleur, portée à une température d'évaporation, d'un dispositif d'évaporation (1, 2) à un ou plusieurs étages et dans lequel la vapeur générée par l'évaporation des particules est emportée du dispositif d'évaporation (1, 2) par un gaz porteur dans une direction d'écoulement du gaz porteur. Selon l'invention, la vapeur est transportée par le gaz porteur à travers un dispositif de modulation (3, 4), à une ou en plusieurs étages, disposé en aval du dispositif d'évaporation (1, 2) dans la direction d'écoulement, lequel dispositif de modulation (3, 4) comporte des secondes surfaces de transfert de chaleur qui sont chauffées dans une phase d'alimentation en vapeur à une première température de modulation à laquelle la vapeur traverse le dispositif de modulation (3, 4) sans condensation au niveau des secondes surfaces de transfert de chaleur et qui sont régulées en température, dans une phase d'interruption, à une seconde température de modulation à laquelle au moins une partie de la vapeur se condense au niveau des secondes surfaces de transfert de chaleur. Le refroidissement peut être effectué par un gaz de refroidissement.</description><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</subject><subject>COATING METALLIC MATERIAL</subject><subject>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</subject><subject>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2016</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZLB3cQ3zdHZVcPRzUfB1DfHwd1Fw8w9ScHf1cw1yDPH0c1cIcwwACoAEHRWcw1x0FYCsgDAXBYhGHgbWtMSc4lReKM3NoOzmGuLsoZtakB-fWlyQmJyal1oSH-5vZGBoZmBgYGlq4WhoTJwqAMgZKng</recordid><startdate>20160107</startdate><enddate>20160107</enddate><creator>POQUÉ, ANDREAS</creator><creator>BECCARD, BIRGIT IRMGARD</creator><creator>CREMER, CLAUDIA</creator><creator>TRIMBORN, KARL-HEINZ</creator><creator>LONG, MICHAEL</creator><creator>EICHLER, ANDY</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20160107</creationdate><title>DEVICE AND METHOD FOR GENERATING VAPOR FOR A CVD- OR PVD DEVICE</title><author>POQUÉ, ANDREAS ; BECCARD, BIRGIT IRMGARD ; CREMER, CLAUDIA ; TRIMBORN, KARL-HEINZ ; LONG, MICHAEL ; EICHLER, ANDY</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2016000958A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre ; ger</language><creationdate>2016</creationdate><topic>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</topic><topic>COATING METALLIC MATERIAL</topic><topic>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</topic><topic>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>POQUÉ, ANDREAS</creatorcontrib><creatorcontrib>BECCARD, BIRGIT IRMGARD</creatorcontrib><creatorcontrib>CREMER, CLAUDIA</creatorcontrib><creatorcontrib>TRIMBORN, KARL-HEINZ</creatorcontrib><creatorcontrib>LONG, MICHAEL</creatorcontrib><creatorcontrib>EICHLER, ANDY</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>POQUÉ, ANDREAS</au><au>BECCARD, BIRGIT IRMGARD</au><au>CREMER, CLAUDIA</au><au>TRIMBORN, KARL-HEINZ</au><au>LONG, MICHAEL</au><au>EICHLER, ANDY</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>DEVICE AND METHOD FOR GENERATING VAPOR FOR A CVD- OR PVD DEVICE</title><date>2016-01-07</date><risdate>2016</risdate><abstract>Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Erzeugen eines Dampfes in einer CVD- oder PVD-Einrichtung, bei dem auf feste oder flüssige Partikel durch Inkontaktbringen an eine erste, auf eine Verdampfungstemperatur gebrachte Wärmeübertragungsfläche einer ein- oder mehrstufigen Verdampfungseinrichtung (1, 2) Verdampfungswärme übertragen wird und der durch Verdampfen der Partikel erzeugte Dampf von einem Trägergas in einer Strömungsrichtung des Trägergases aus der Verdampfungseinrichtung (1, 2) transportiert wird. Erfindungsgemäß wird der Dampf vom Trägergas durch eine in Strömungsrichtung hinter der Verdampfungseinrichtung (1, 2) angeordneten ein- oder mehrstufigen Modulationseinrichtung (3, 4) transportiert, welche Modulationseinrichtung (3, 4) zweite Wärmeübertragungsflächen aufweist, die in einer Dampflieferphase auf eine erste Modulationstemperatur temperiert werden, bei der der Dampf ohne Kondensation an den zweiten Wärmeübertragungsflächen durch die Modulationseinrichtung (3, 4) hindurchtritt, und die in einer Unterbrechungsphase auf eine zweite Modulationstem- peratur temperiert werden, bei der zumindest ein Teil des Dampfes an den zweiten Wärmeübertragungsflächen kondensiert. Die Kühlung kann durch ein Kühlgas erfolgen.
The invention pertains to a device and a method for generating vapor in a CVD or PVD device. In the method, the heat of vaporization is transferred to solid or liquid particles by bringing the particles into contact with a first heat transfer surface, which has reached a vaporization temperature, of a single or multistage vaporization device (1, 2), and the vapor generated by vaporizing the particles is transported by a carrier gas out of the vaporization device (1 ,2) in the direction of the carrier gas flow. According to the invention, the vapor is transported by the carrier gas through a single or multistage modulation device (3, 4) arranged after the vaporization device (1 ,2) in the direction of the carrier gas flow. The modulation device (3, 4) has second heat transfer surfaces which are adjusted to a first modulation temperature, at which the vapor passes through the modulation device (3, 4) without condensing on the second heat transfer surfaces, in a vapor transfer phase, and which are adjusted to a second modulation temperature, at which at least some of the vapor condenses on the second heat transfer surfaces, in an intermission phase. Cooling can be performed with a cooling gas.
L'invention concerne un dispositif et un procédé de génération de vapeur dans un dispositif CVD ou PVD, procédé dans lequel de la chaleur d'évaporation est transférée à des particules solides ou liquides par mise en contact avec une première surface de transfert de chaleur, portée à une température d'évaporation, d'un dispositif d'évaporation (1, 2) à un ou plusieurs étages et dans lequel la vapeur générée par l'évaporation des particules est emportée du dispositif d'évaporation (1, 2) par un gaz porteur dans une direction d'écoulement du gaz porteur. Selon l'invention, la vapeur est transportée par le gaz porteur à travers un dispositif de modulation (3, 4), à une ou en plusieurs étages, disposé en aval du dispositif d'évaporation (1, 2) dans la direction d'écoulement, lequel dispositif de modulation (3, 4) comporte des secondes surfaces de transfert de chaleur qui sont chauffées dans une phase d'alimentation en vapeur à une première température de modulation à laquelle la vapeur traverse le dispositif de modulation (3, 4) sans condensation au niveau des secondes surfaces de transfert de chaleur et qui sont régulées en température, dans une phase d'interruption, à une seconde température de modulation à laquelle au moins une partie de la vapeur se condense au niveau des secondes surfaces de transfert de chaleur. Le refroidissement peut être effectué par un gaz de refroidissement.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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