COMPOSITIONS COMPRISING CLEAVABLE CROSSLINKER AND METHODS

A composition is described comprising a polymer. The polymer comprises polymerized units derived from a cleavable crosslinking monomer. The cleavable crosslinking monomer comprises at least two free-radically polymerizable groups and at least one group having the formula -O-C(R2)(R3)-O-, wherein R2 and R3 are independently hydrogen, alkyl, or aryl. The composition has a Tg no greater than 50°C. In some embodiments, the composition has a storage modulus greater than 3 X 105 Pa at 25°C and 1 Hz and may be characterized as a non-tacky polymer. In other embodiments, the composition is a pressure sensitive adhesive. Upon cleavage of at least a portion of the polymerized monomeric units derived from the cleavable crosslinking monomer, the composition exhibits a change in at least one physical property. In another embodiment, the composition comprises a polymer and fragments. The fragments comprise the reaction product of a free-radically polymerizable group bonded to a polymer chain and a pendent hydroxyl group. The composition has a Tg no greater than 50°C. Also described are articles, comprising the composition described herein (i.e. before and/or after cleavage); as well as methods of making the composition and methods of making articles. L'invention concerne une composition comprenant un polymère. Le polymère comprend des motifs polymérisés qui dérivent d'un monomère réticulant clivable. Le monomère réticulant clivable comprend au moins deux groupes polymérisables par polymérisation radicalaire et au moins un groupe ayant la formule -O-C(R2)(R3)-O-, où R2 et R3 représentent chacun indépendamment de l'autre un atome d'hydrogène, un groupe alkyle ou aryle. La composition a une Tg non supérieure à 50 °C. Dans certaines formes de réalisation, la composition a un module de conservation supérieur à 3 X 105 Pa à 25 °C et 1 Hz, et peut être caractérisée comme étant un polymère non poisseux. Dans d'autres formes de réalisation, la composition est un adhésif sensible à la pression. Après clivage d'au moins une portion des motifs monomères polymérisés qui dérivent du monomère réticulant clivable, la composition présente un changement d'au moins une propriété physique. Dans une autre forme de réalisation, la composition comprend un polymère et des fragments. Les fragments comprennent le produit de réaction d'un groupe polymérisable par polymérisation radicalaire lié à une chaîne polymère et un groupe hydroxyle latéral. La composition a une Tg non supérieure à 50 °C. L'i