PLASMA CVD FILM-FORMING DEVICE

Provided is a plasma CVD film-forming device for preventing the occurrence of an abnormal discharge in a section where a substrate is not wrapped in a range where a film is formed in the axial direction of a film-forming roller. The plasma CVD film-forming device (10) is equipped with: a vacuum cham...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: OKIMOTO, TADAO, KUROKAWA, YOSHINORI
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; jpn
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:Provided is a plasma CVD film-forming device for preventing the occurrence of an abnormal discharge in a section where a substrate is not wrapped in a range where a film is formed in the axial direction of a film-forming roller. The plasma CVD film-forming device (10) is equipped with: a vacuum chamber (1); a metal film-forming roller (2) having a band-like substrate wrapped around one section of the outer circumferential surface thereof in the circumferential direction; a magnetic-field generation unit (3) that generates a magnetic field outside the section of the film-forming roller (2) around which the substrate is wrapped, and is positioned inside the film-forming roller (2); a power source (4) that imparts, to the film-forming roller (2), an AC voltage for generating plasma inside the magnetic field region, and is connected to the film-forming roller (2); and an insulating section (9) that is formed from an insulating material and covers a range along the surface of the film-forming roller (2) including at least the region of the outer circumferential surface in the axial direction of the film-forming roller (2) where the magnetic-field generation unit (3) is positioned. L'invention se rapporte à un dispositif de formation de film par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) assisté par plasma, permettant d'empêcher l'apparition d'une décharge anormale dans une section où un substrat n'est pas enroulé dans une plage où un film est formé dans la direction axiale d'un rouleau de formation de film. Le dispositif de formation de film par CVD assisté par plasma (10) est pourvu de : une chambre à vide (1) ; un rouleau de formation de film métallique (2) comprenant un substrat en forme de bande enroulé autour d'une section de sa surface de circonférence externe dans la direction de la circonférence ; une unité de production de champ magnétique (3) pour la production d'un champ magnétique à l'extérieur de la section du rouleau de formation de film (2) autour de laquelle le substrat est enroulé et disposée à l'intérieur du rouleau de formation de film (2) ; une source de puissance (4) pour l'application au rouleau de formation de film (2) d'une tension alternative pour produire un plasma à l'intérieur de la région de champ magnétique et branchée au rouleau de formation de film (2) ; et une section isolante (9) qui comprend un matériau isolant et recouvre une plage le long de la surface du rouleau de formation de film (2) comprenant au moins la région dans la direc