CONTROL SYSTEM, POSITIONING SYSTEM, LITHOGRAPHIC APPARATUS, CONTROL METHOD, DEVICE MANUFACTURING METHOD AND CONTROL PROGRAM

A control system for a positioning system, for positioning a driven object, e.g. a lithographic apparatus, in N dimension has M sensors, where M>N. A transformation module converts the M measurements pointed by the sensors into a positional estimate in N dimensions taking into account compliance...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	DE BEST, JEROEN, JOHANNES, THEODORUS, HENDRIKUS, VAN DE WAL, MARINUS, MARIA, JOHANNES, VAN EIJK, JAN, AANGENENT, WILHELMUS, HENRICUS, THEODORUS, MARIA
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A control system for a positioning system, for positioning a driven object, e.g. a lithographic apparatus, in N dimension has M sensors, where M>N. A transformation module converts the M measurements pointed by the sensors into a positional estimate in N dimensions taking into account compliance of the driven object. L'invention concerne un système de commande d'un système de positionnement, pour le positionnement d'un objet entraîné, un appareil lithographique par exemple, dans une dimension N. Le système de commande comprend M capteurs, M étant > N. Un module de transformation convertit les M mesures désignées par les capteurs dans une estimation de position en N dimensions, en tenant compte de la conformité de l'objet entraîné.