SUBSTRATE CARRIER THAT CARRIES A SUBSTRATE ON EACH OF TWO BROAD SIDES OF THE SUBSTRATE CARRIER THAT FACE AWAY FROM EACH OTHER

Die Erfindung betrifft einen Substratträger und einen mit dem Substratträger zusammenwirkenden CVD-Reaktor zur Anordnung in einem CVD- oder PVD-Reaktor (20), insbesondere zum Abscheiden von Kohlenstoff -Nano-Röhrchen, oder Graphene mit einer ersten Breitseitenfläche (2) zur Aufnahme eines zu beschichtenden Substrates (6) und einer von der ersten Breitseitenfläche (2) wegweisenden zweiten Breitseitenfläche (3). Um eine Vorrichtung oder Teile einer Vorrichtung zum Abscheiden von Kohlenstoff -Nano-Röhrchen zu verbessern, wird vorgeschlagen, dass die erste Breitseitenfläche (2) und die zweite Breitseitenfläche (3) jeweils eine Substrat-Aufnahmezone (4, 5) aufweisen, in denen Fixierelemente (14, 14', 15) vorgesehen sind, mit denen jeweils ein Substrat (6) oder Abschnitte eines Substrates (6) an der Breitseitenfläche (2, 3) befestigbar ist. Außerdem betrifft die Erfindung einen CVD-Reaktor mit einem Substratträger (1). The invention relates to a substrate carrier and to a CVD reactor interacting with the substrate carrier, said substrate carrier being designed to be arranged in a CVD or PVD reactor (20), in particular for the deposition of carbon nanotubes or graphene, said substrate carrier having a first broad-side surface (2) for accommodating a substrate (6) to be coated and a second broad-side surface (3) facing away from the first broad-side surface (2). In order to improve a device or parts of a device for depositing carbon nanotubes, the first broad-side surface (2) and the second broad-side surface (3) according to the invention each have a substrate accommodation zone (4, 5), in which fastening elements (14, 14', 15) are provided, by means of which a substrate (6) or sections of a substrate (6) can be fastened to the broad-side surface (2, 3). The invention further relates to a CVD reactor having a substrate carrier (1). L'invention concerne un porte-substrat et un réacteur CVD, coopérant avec le porte-substrat, le porte-substrat étant destiné à être disposé dans un réacteur CVD ou PVD (20), en particulier en vue du dépôt de nanotubes en carbone ou de graphènes, présentant une première surface à côté large (2) destinée à recevoir un substrat (6) à revêtir et une seconde surface à côté large (3) opposée à la première surface à côté large (2). Selon l'invention, pour améliorer un dispositif ou des parties d'un dispositif servant à déposer des nanotubes de carbone, la première surface à côté large et la seconde surface à côté large (3) comportent chacune