COPOLYMER COMPRISING UNITS OF TYPE A DERIVING FROM CARBOXYLIC ACID MONOMERS AND UNITS OF TYPE B DERIVING FROM SULFONIC ACID MONOMERS
The present invention relates to a copolymer comprising units of type A deriving from carboxylic acid monomers and units of type B deriving from sulfonic acid monomers, said units of type A and B representing more than 80 mol % of the total moles of units in the copolymer, characterized in that it c...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | The present invention relates to a copolymer comprising units of type A deriving from carboxylic acid monomers and units of type B deriving from sulfonic acid monomers, said units of type A and B representing more than 80 mol % of the total moles of units in the copolymer, characterized in that it comprises at least: -one first block formed of at least 95 mol % of units of type A and having a degree of polymerization DP1 comprised between 5 and 150; and -one second block formed of at least 95 mol % of units of type A and B with a molar ratio of units of type A to units of type B greater or equal to 1, wherein said units of type A and units of type B are statistically distributed, said second block having a degree of polymerization DP2such that DP2/DP1≥ 1. It also relates to new detergent compositions comprising such a copolymer, and to the use of this copolymer in a detergent composition, especially an ADW composition, to prevent, limit or eliminate the filming phenomena.
Cette invention concerne un copolymère comprenant des motifs de type A dérivant de monomères acide carboxylique et des motifs de type B dérivant de monomères acide sulfonique, lesdits motifs de type A et B représentant plus de 80 % en mol des moles totales de motifs dans le copolymère, caractérisé en ce qu'il comprend au moins : - une première séquence formée d'au moins 95 % en mol de motifs de type A et ayant un degré de polymérisation DP1 compris entre 5 et 150 ; et - une seconde séquence formée d'au moins 95 % en mol de motifs de type A et B dans un rapport molaire des motifs de type A aux motifs de type B supérieur ou égal à 1, lesdits motifs de type A et motifs de type B étant distribués statistiquement, et ladite seconde séquence ayant un degré de polymérisation DP2 tel que DP2/DP1≥ 1. Elle concerne également de nouvelles compositions détergentes comprenant un copolymère selon l'invention, et l'utilisation de ce copolymère dans une composition détergente, notamment une composition ADW, pour prévenir, limiter ou éliminer le phénomène de formation de film. |
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