METHOD AND APPARATUS FOR DESIGN OF A METROLOGY TARGET

A method of metrology target design is described. The method includes determining a sensitivity of a parameter for a metrology target design to an optical aberration, determining a difference between an impact on the parameter for the metrology target design and an impact on the parameter for a product design exposed using an optical system of a lithographic apparatus based on the product of the sensitivity and the aberration of the optical system. The method further includes determining a sensitivity of a parameter for a metrology target design to each aberration of a plurality of aberrations and determining an impact on the parameter for the metrology target design based on the sum of the sensitivities multiplied by the respective aberrations of the optical system. The parameter may be overlay error, critical dimension and focus. The aberration may be different across the exposure slit but the sensitivity is substantially independent of the slit position. La présente invention concerne un procédé de conception de cible de métrologie. Le procédé consiste à déterminer une sensibilité de paramètre d'une conception de cible de métrologie à une aberration optique, à déterminer une différence entre un impact sur le paramètre de la conception de cible de métrologie et un impact sur le paramètre d'une conception de produit exposée au moyen d'un système optique d'un appareil lithographique basée sur le produit de la sensibilité et de l'aberration du système optique. Le procédé consiste en outre à déterminer une sensibilité d'un paramètre d'une conception de cible de métrologie à chaque aberration d'une pluralité d'aberrations et à déterminer un impact sur le paramètre de la conception de cible de métrologie basée sur la somme des sensibilités multipliée par les aberrations respectives du système optique. Le paramètre peut être une erreur de chevauchement, une dimension critique et une mise au point. L'aberration peut être différente d'un bout à l'autre de la fente d'exposition mais la sensibilité est sensiblement indépendante de la position de fente.