INSPECTION METHOD AND APPARATUS, AND LITHOGRAPHIC APPARATUS

Disclosed is a method of correcting an image characteristic of a substrate onto which one or more product features have been formed using a lithographic process, and an associated inspection apparatus method. The method comprises measuring an error in said image characteristic of said substrate; and...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	DECKERS, DAVID, RHE, KYU, KAB, THEEUWES, THOMAS, SIMONS, HUBERTUS, JOHANNES, GERTRUDUS
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Disclosed is a method of correcting an image characteristic of a substrate onto which one or more product features have been formed using a lithographic process, and an associated inspection apparatus method. The method comprises measuring an error in said image characteristic of said substrate; and determining corrections for a subsequent formation of the product features based upon the measured error and a characteristic of one or more of said product feature(s). La présente invention a trait à un procédé de correction d'une caractéristique d'image d'un substrat sur lequel un ou plusieurs éléments de produit ont été formés à l'aide d'un processus lithographique, ainsi qu'à un appareil et à un procédé d'inspection associés. Ledit procédé consiste à mesurer une erreur dans ladite caractéristique d'image dudit substrat; et déterminer des corrections pour une formation subséquente des éléments de produit sur la base de l'erreur mesurée et d'une caractéristique d'un ou de plusieurs desdits éléments de produit.