SUBSTRATE WITH LOW-PERMEABILITY COATING FOR THE SOLIDIFICATION OF SILICON
The invention relates to a substrate characterised in that it is at least partially surface-coated with a coating containing at least one so-called "barrier" layer comprising silica and one or more material(s) X selected from among SiC, Si, Si3N4, in which layer the amount of X varies betw...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | The invention relates to a substrate characterised in that it is at least partially surface-coated with a coating containing at least one so-called "barrier" layer comprising silica and one or more material(s) X selected from among SiC, Si, Si3N4, in which layer the amount of X varies between 25 -wt.% and 50.-wt.% in relation to the total weight of the barrier layer, said barrier layer being formed by grains of one or more materials X covered at least partially in a silica shell, and said barrier layer being in direct contact with the substrate.
La présente invention concerne un substrat caractérisé en ce qu'il est revêtu au moins partiellement en surface, d'un revêtement contenant au moins une couche dite « barrière » comprenant de la silice et un ou plusieurs matériau(x) X choisi(s) parmi SiC, Si, Si3N4, couche dans laquelle la quantité massique de X varie de 25% à 50% par rapport à la masse totale de la couche barrière, ladite couche barrière étant formée de grains d'un ou plusieurs matériaux X recouverts au moins partiellement par une enveloppe de silice, la couche barrière étant disposée en contact direct avec le substrat. |
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