METHOD OF FORMING CONDUCTIVE FILMS WITH MICRO-WIRES

A pattern of conductive micro-wires as in a conductive pattern can be prepared using photo-lithography, or imprint technology. A photocurable composition is cured to form a pattern of photocured micro-channels. A conductive composition comprising metal nano-particles is added to the photocured micro- channels and excess conductive composition outside the photocured micro-channels is removed. The conductive composition in the photocured micro-channels is then dried at a temperature of less than 60°C. The dried conductive composition in the photocured micro-channels is treated with hydrogen chloride vapor to form conductive micro-wires in the photocured micro-channels at a temperature of less than 60°C. The outer surface of the conductive micro-wires is then polished in the presence of water, to form a micro-wire pattern. Selon la présente invention, un motif de micro-fils conducteurs comme motif conducteur peut être préparé par photolithographie ou par une technique d'impression. Une composition photodurcissable est durcie pour former un motif de micro-canaux photodurcis. Une composition conductrice comprenant des nanoparticules métalliques est versée dans des micro-canaux photodurcis et l'excédent de composition conductrice situé à l'extérieur des micro-canaux photodurcis est éliminé. La composition conductrice des micro-canaux photodurcis est ensuite séchée à une température inférieure à 60 °C. La composition conductrice séchée des micro-canaux photodurcis est traitée à la vapeur de chlorure d'hydrogène pour former des micro-fils conducteurs dans les micro-canaux photodurcis à une température inférieure à 60 °C. La surface extérieure des micro-fils conducteurs est ensuite polie en présence d'eau, pour former un motif de micro-fils.