REMOVING PROCESS-VARIATION-RELATED INACCURACIES FROM SCATTEROMETRY MEASUREMENTS

Metrology methods and respective software and module are provided, which identify and remove measurement inaccuracy which results from process variation leading to target asymmetries. The methods comprise identifying an inaccuracy contribution of process variation source(s) to a measured scatterometry signal (e.g., overlay) by measuring the signal across a range of measurement parameter(s) (e.g., wavelength, angle) and targets, and extracting a measurement variability over the range which is indicative of the inaccuracy contribution. The method may further assume certain functional dependencies of the resulting inaccuracy on the target asymmetry, estimate relative donations of different process variation sources and apply external calibration to further enhance the measurement accuracy. L'invention concerne des procédés de métrologie, ainsi qu'un logiciel et un module respectifs, lesquels identifient et éliminent une inexactitude de mesure qui résulte d'une variation de procédé entraînant des asymétries cibles. Les procédés comprennent l'identification d'une contribution d'inexactitude d'une ou plusieurs sources de variation de procédé à un signal mesuré de diffusométrie (par exemple, un recouvrement) par le mesure du signal à travers une plage d'un ou plusieurs paramètres de mesure (par exemple, longueur d'onde, angle) et de cibles, et l'extraction d'une variabilité de mesure sur la plage qui est caractéristique de la contribution d'inexactitude. Le procédé peut en outre adopter certaines dépendances fonctionnelles de l'inexactitude résultante sur l'asymétrie cible, estimer les apports relatifs de différentes sources de variation de procédé et appliquer un étalonnage externe pour améliorer encore la précision de mesure.