METHOD FOR INCREASING ADHESION OF COPPER TO POLYMERIC SURFACES

Techniques disclosed herein a method and system for conditioning a polymeric layer on a substrate to enable adhesion of a metal layer to the polymeric layer. Techniques may include conditioning the polymeric layer with nitrogen-containing plasma to generate a nitride layer on the surface of the poly...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: SERYOGIN, GEORGIY, TETREAULT, THOMAS G, CHANDRASEKARAN, RAMYA, GOLOVATO, STEPHEN N
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
container_end_page
container_issue
container_start_page
container_title
container_volume
creator SERYOGIN, GEORGIY
TETREAULT, THOMAS G
CHANDRASEKARAN, RAMYA
GOLOVATO, STEPHEN N
description Techniques disclosed herein a method and system for conditioning a polymeric layer on a substrate to enable adhesion of a metal layer to the polymeric layer. Techniques may include conditioning the polymeric layer with nitrogen-containing plasma to generate a nitride layer on the surface of the polymeric layer. In another embodiment, the conditioning may include depositing a CuN layer using a lower power copper sputtering process in a nitrogen rich environment. Following the condition process, a higher power copper deposition or sputtering process may be used to deposit copper onto the polymeric layer with good adhesion properties. Selon l'invention, les techniques décrites comprennent un procédé et un système pour conditionner une couche polymère sur un substrat afin de permettre l'adhésion d'une couche métallique sur la couche polymère. Des techniques peuvent comprendre le conditionnement de la couche polymère à l'aide d'un plasma contenant de l'azote pour générer une couche de nitrure sur la surface de la couche polymère. Selon un autre mode de réalisation, le conditionnement peut comprendre le dépôt d'une couche de CuN à l'aide d'un processus de pulvérisation de cuivre à faible puissance dans un environnement riche en azote. Après le processus de conditionnement, un dépôt de cuivre à haute énergie ou un processus de pulvérisation peuvent être utilisés pour déposer du cuivre sur la couche polymère avec de bonnes propriétés d'adhésion.
format Patent
fullrecord <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_WO2015020725A2</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>WO2015020725A2</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_WO2015020725A23</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZLDzdQ3x8HdRcPMPUvD0cw5ydQz29HNXcHTxcA329PdT8HdTcPYPCHANUgjxVwjw94n0dQ3ydFYIDg1yc3R2DeZhYE1LzClO5YXS3AzKbq4hzh66qQX58anFBYnJqXmpJfHh_kYGhqYGRgbmRqaORsbEqQIA9YIq7g</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>METHOD FOR INCREASING ADHESION OF COPPER TO POLYMERIC SURFACES</title><source>esp@cenet</source><creator>SERYOGIN, GEORGIY ; TETREAULT, THOMAS G ; CHANDRASEKARAN, RAMYA ; GOLOVATO, STEPHEN N</creator><creatorcontrib>SERYOGIN, GEORGIY ; TETREAULT, THOMAS G ; CHANDRASEKARAN, RAMYA ; GOLOVATO, STEPHEN N</creatorcontrib><description>Techniques disclosed herein a method and system for conditioning a polymeric layer on a substrate to enable adhesion of a metal layer to the polymeric layer. Techniques may include conditioning the polymeric layer with nitrogen-containing plasma to generate a nitride layer on the surface of the polymeric layer. In another embodiment, the conditioning may include depositing a CuN layer using a lower power copper sputtering process in a nitrogen rich environment. Following the condition process, a higher power copper deposition or sputtering process may be used to deposit copper onto the polymeric layer with good adhesion properties. Selon l'invention, les techniques décrites comprennent un procédé et un système pour conditionner une couche polymère sur un substrat afin de permettre l'adhésion d'une couche métallique sur la couche polymère. Des techniques peuvent comprendre le conditionnement de la couche polymère à l'aide d'un plasma contenant de l'azote pour générer une couche de nitrure sur la surface de la couche polymère. Selon un autre mode de réalisation, le conditionnement peut comprendre le dépôt d'une couche de CuN à l'aide d'un processus de pulvérisation de cuivre à faible puissance dans un environnement riche en azote. Après le processus de conditionnement, un dépôt de cuivre à haute énergie ou un processus de pulvérisation peuvent être utilisés pour déposer du cuivre sur la couche polymère avec de bonnes propriétés d'adhésion.</description><language>eng ; fre</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; CHEMICAL SURFACE TREATMENT ; CHEMISTRY ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL ; COATING METALLIC MATERIAL ; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL ; METALLURGY ; SEMICONDUCTOR DEVICES ; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><creationdate>2015</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20150212&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2015020725A2$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20150212&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2015020725A2$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>SERYOGIN, GEORGIY</creatorcontrib><creatorcontrib>TETREAULT, THOMAS G</creatorcontrib><creatorcontrib>CHANDRASEKARAN, RAMYA</creatorcontrib><creatorcontrib>GOLOVATO, STEPHEN N</creatorcontrib><title>METHOD FOR INCREASING ADHESION OF COPPER TO POLYMERIC SURFACES</title><description>Techniques disclosed herein a method and system for conditioning a polymeric layer on a substrate to enable adhesion of a metal layer to the polymeric layer. Techniques may include conditioning the polymeric layer with nitrogen-containing plasma to generate a nitride layer on the surface of the polymeric layer. In another embodiment, the conditioning may include depositing a CuN layer using a lower power copper sputtering process in a nitrogen rich environment. Following the condition process, a higher power copper deposition or sputtering process may be used to deposit copper onto the polymeric layer with good adhesion properties. Selon l'invention, les techniques décrites comprennent un procédé et un système pour conditionner une couche polymère sur un substrat afin de permettre l'adhésion d'une couche métallique sur la couche polymère. Des techniques peuvent comprendre le conditionnement de la couche polymère à l'aide d'un plasma contenant de l'azote pour générer une couche de nitrure sur la surface de la couche polymère. Selon un autre mode de réalisation, le conditionnement peut comprendre le dépôt d'une couche de CuN à l'aide d'un processus de pulvérisation de cuivre à faible puissance dans un environnement riche en azote. Après le processus de conditionnement, un dépôt de cuivre à haute énergie ou un processus de pulvérisation peuvent être utilisés pour déposer du cuivre sur la couche polymère avec de bonnes propriétés d'adhésion.</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</subject><subject>COATING METALLIC MATERIAL</subject><subject>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</subject><subject>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</subject><subject>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><subject>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2015</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZLDzdQ3x8HdRcPMPUvD0cw5ydQz29HNXcHTxcA329PdT8HdTcPYPCHANUgjxVwjw94n0dQ3ydFYIDg1yc3R2DeZhYE1LzClO5YXS3AzKbq4hzh66qQX58anFBYnJqXmpJfHh_kYGhqYGRgbmRqaORsbEqQIA9YIq7g</recordid><startdate>20150212</startdate><enddate>20150212</enddate><creator>SERYOGIN, GEORGIY</creator><creator>TETREAULT, THOMAS G</creator><creator>CHANDRASEKARAN, RAMYA</creator><creator>GOLOVATO, STEPHEN N</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20150212</creationdate><title>METHOD FOR INCREASING ADHESION OF COPPER TO POLYMERIC SURFACES</title><author>SERYOGIN, GEORGIY ; TETREAULT, THOMAS G ; CHANDRASEKARAN, RAMYA ; GOLOVATO, STEPHEN N</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2015020725A23</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2015</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</topic><topic>COATING METALLIC MATERIAL</topic><topic>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</topic><topic>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</topic><topic>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>SEMICONDUCTOR DEVICES</topic><topic>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>SERYOGIN, GEORGIY</creatorcontrib><creatorcontrib>TETREAULT, THOMAS G</creatorcontrib><creatorcontrib>CHANDRASEKARAN, RAMYA</creatorcontrib><creatorcontrib>GOLOVATO, STEPHEN N</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>SERYOGIN, GEORGIY</au><au>TETREAULT, THOMAS G</au><au>CHANDRASEKARAN, RAMYA</au><au>GOLOVATO, STEPHEN N</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>METHOD FOR INCREASING ADHESION OF COPPER TO POLYMERIC SURFACES</title><date>2015-02-12</date><risdate>2015</risdate><abstract>Techniques disclosed herein a method and system for conditioning a polymeric layer on a substrate to enable adhesion of a metal layer to the polymeric layer. Techniques may include conditioning the polymeric layer with nitrogen-containing plasma to generate a nitride layer on the surface of the polymeric layer. In another embodiment, the conditioning may include depositing a CuN layer using a lower power copper sputtering process in a nitrogen rich environment. Following the condition process, a higher power copper deposition or sputtering process may be used to deposit copper onto the polymeric layer with good adhesion properties. Selon l'invention, les techniques décrites comprennent un procédé et un système pour conditionner une couche polymère sur un substrat afin de permettre l'adhésion d'une couche métallique sur la couche polymère. Des techniques peuvent comprendre le conditionnement de la couche polymère à l'aide d'un plasma contenant de l'azote pour générer une couche de nitrure sur la surface de la couche polymère. Selon un autre mode de réalisation, le conditionnement peut comprendre le dépôt d'une couche de CuN à l'aide d'un processus de pulvérisation de cuivre à faible puissance dans un environnement riche en azote. Après le processus de conditionnement, un dépôt de cuivre à haute énergie ou un processus de pulvérisation peuvent être utilisés pour déposer du cuivre sur la couche polymère avec de bonnes propriétés d'adhésion.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
fulltext fulltext_linktorsrc
identifier
ispartof
issn
language eng ; fre
recordid cdi_epo_espacenet_WO2015020725A2
source esp@cenet
subjects BASIC ELECTRIC ELEMENTS
CHEMICAL SURFACE TREATMENT
CHEMISTRY
COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL
COATING METALLIC MATERIAL
DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL
METALLURGY
SEMICONDUCTOR DEVICES
SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
title METHOD FOR INCREASING ADHESION OF COPPER TO POLYMERIC SURFACES
url https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-04T05%3A27%3A07IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=SERYOGIN,%20GEORGIY&rft.date=2015-02-12&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EWO2015020725A2%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true